而CMP工藝離不開研磨料的發(fā)展，那么對于磨料的顆粒粒度表征就顯得尤為重要了。CMP就是用化學(xué)腐蝕和機械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進行平滑處理。將硅片固定在拋光頭的較下面，將拋光墊放置在研磨盤上，拋光時，旋轉(zhuǎn)的拋光頭以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液組成的研磨液在硅片表面和拋光墊之間流動，然后研磨液在拋光墊的傳輸和離心力的作用下，均勻分布其上，在硅片和拋光墊之間形成一層研磨液液體薄膜。馳光機電科技有限公司在客戶和行業(yè)中樹立了良好的企業(yè)形象。西藏激光粒度分析儀報價

提供數(shù)量、面積和體積等指標(biāo)的平率分布圖和表、累計分布圖和表格粒度和粒型參數(shù)分布的結(jié)果；能夠自動產(chǎn)生實驗結(jié)果world報告。激光和視頻分析產(chǎn)生的信息，很容易通過直觀的數(shù)據(jù)報表軟件得到。測量結(jié)果可以各種表格和圖顯示出來，這些表格和圖可以由用戶選擇，以便正確顯示需要的信息。通過數(shù)據(jù)挖掘技術(shù)，很容易實現(xiàn)數(shù)據(jù)比較和分析，允許對覆蓋圖和比較表進行編輯。輕點一下鼠標(biāo)，就能生成Word格式的樣品分析報告，該文件包括樣品制備、粒徑和粒形結(jié)果，還帶有圖像或視頻信息。吉林高精度納米粒度分析儀馳光機電科技與廣大客戶攜手共創(chuàng)碧水藍天。

能夠允許用戶為不同樣品設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)測量方法SOP，并且可以對SOP進行編輯和保存。EyeTech 是一個模塊化的系統(tǒng)，可以選配10種不同的測量池。更換測量池簡便快速，儀器便于分析各種顆粒，如液相、乳化液、干粉、纖維、磁粉、加熱的液體和氣溶膠等。這些測量池模塊都是配合不同的分析方法而開發(fā)的，確保能夠根據(jù)樣品的特性來測量。纖維測量池：ACM-104L，氣溶膠測量池ACM-106，微流量測量池ACM-108，載玻片測量池ACM-110，加熱測量池ACM-111，自由落體測量池ACM-112。在每一次分析過程中，激光光束與顆粒之間發(fā)生了上百萬次的交互作用。

CMP(化學(xué)機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！選擇馳光機電，就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況，峰值清晰可見，為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案。應(yīng)用范圍：CPS納米粒度分析儀可測量粒度分布在5nm-75微米之間的超細粉，大量應(yīng)用于以下領(lǐng)域?；ぃ壕酆衔锶槟z和乳液，助劑及添加劑(納米碳酸鈣CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金剛石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗沖擊增強顆粒。制藥/生物：納米金和納米銀，病毒和類病毒顆粒，細胞和細胞碎片，蛋白質(zhì)，脂質(zhì)體。馳光機電敢于承擔(dān)、克難攻堅。吉林高精度納米粒度分析儀

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CMP漿料粒度分析的難點在于必須在拋光過程中全濃度條件下快速測定平均顆粒直徑和粒度分布，因為稀釋可能導(dǎo)致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進一步的團聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測本來就較少量的團聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來。適用于稀到高濃度的樣品粒度測定，對團聚體的存在非常敏感。西藏激光粒度分析儀報價