封裝的分類

1、按封裝集成電路芯片的數(shù)目:單芯片封裝(scP)和多芯片封裝(MCP)；

2、按密封材料區(qū)分:高分子材料(塑料)和陶瓷；

3、按器件與電路板互連方式:引腳插入型(PTH)和表面貼裝型(SMT)4、按引腳分布形態(tài):單邊引腳、雙邊引腳、四邊引腳和底部引腳；SMT器件有L型、J型、I型的金屬引腳。SIP :單列式封裝 SQP:小型化封裝 MCP:金屬罐式封裝 DIP:雙列式封裝 CSP:芯片尺寸封裝QFP: 四邊扁平封裝 PGA:點陣式封裝 BGA:球柵陣列式封裝LCCC: 無引線陶瓷芯片載體 | 無錫微原電子科技，芯片技術(shù)助力智能時代。新吳區(qū)集成電路芯片功能

它在電路中用字母“IC”表示。集成電路的發(fā)明者是JackKilby（集成電路基于鍺(Ge)）和RobertNoyth（基于硅(Si)的集成電路）。當今半導體行業(yè)的大多數(shù)應用都是基于硅的集成電路。集成電路是1950年代末和1960年代發(fā)展起來的一種新型半導體器件。它是通過氧化、光刻、擴散、外延、蒸鍍鋁等半導體制造工藝，將形成具有一定功能的電路所需的半導體、電阻、電容等元器件以及它們之間的連接線都集成到一個小片上硅片，然后焊接封裝在封裝中的電子設備。其包裝外殼有圓殼式、扁平式或雙列式等多種形式。集成電路技術(shù)包括芯片制造技術(shù)和設計技術(shù)，主要體現(xiàn)在加工設備、加工技術(shù)、封裝測試、量產(chǎn)和設計創(chuàng)新能力等方面。北京集成電路芯片構(gòu)件| 無錫微原電子科技，為行業(yè)提供先進芯片技術(shù)。

作用不同芯片可以封裝更多的電路。這樣增加了每單位面積容量，可以降低成本和增加功能，見摩爾定律，集成電路中的晶體管數(shù)量，每1.5年增加一倍。集成電路所有元件在結(jié)構(gòu)上已組成一個整體，使電子元件向著微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面邁進了一大步。IC可以在一塊豌豆大小的材料上包含數(shù)十萬個單獨的晶體管。使用那么多的真空管會不切實際地笨拙且昂貴。集成電路的發(fā)明使信息時代的技術(shù)變得可行。IC現(xiàn)在廣泛應用于各行各業(yè)，從汽車到烤面包機再到游樂園游樂設施。集成電路幾乎用于所有電子設備，并徹底改變了電子世界?，F(xiàn)代計算機處理器和微控制器等IC的小尺寸和低成本使計算機、移動電話和其他數(shù)字家用電器成為現(xiàn)代社會結(jié)構(gòu)中不可分割的部分。

從20世紀30年代開始，元素周期表中的化學元素中的半導體被研究者如貝爾實驗室的威廉·肖克利（William Shockley）認為是固態(tài)真空管的**可能的原料。從氧化銅到鍺，再到硅，原料在20世紀40到50年代被系統(tǒng)的研究。盡管元素周期表的一些III-V價化合物如砷化鎵應用于特殊用途如：發(fā)光二極管、激光、太陽能電池和比較高速集成電路，單晶硅成為集成電路主流的基層。創(chuàng)造無缺陷晶體的方法用去了數(shù)十年的時間。

半導體集成電路工藝，包括以下步驟，并重復使用：光刻刻蝕薄膜（化學氣相沉積或物***相沉積）摻雜（熱擴散或離子注入）化學機械平坦化CMP使用單晶硅晶圓（或III-V族，如砷化鎵）用作基層，然后使用光刻、摻雜、CMP等技術(shù)制成MOSFET或BJT等組件，再利用薄膜和CMP技術(shù)制成導線，如此便完成芯片制作。因產(chǎn)品性能需求及成本考量，導線可分為鋁工藝（以濺鍍?yōu)橹鳎┖豌~工藝（以電鍍?yōu)橹鲄⒁奃amascene）。主要的工藝技術(shù)可以分為以下幾大類：黃光微影、刻蝕、擴散、薄膜、平坦化制成、金屬化制成。 | 無錫微原電子科技，讓芯片技術(shù)更加人性化。

基爾比之后半年，仙童半導體公司的羅伯特·諾伊斯開發(fā)了一種新的集成電路，比基爾比的更實用。諾伊斯的設計由硅制成，而基爾比的芯片由鍺制成。諾伊斯將以下原理歸功于斯普拉格電氣的庫爾特·利霍韋克p–n絕緣結(jié)，這也是集成電路背后的關(guān)鍵概念。[17]這種絕緣允許每個晶體管**工作，盡管它們是同一片硅的一部分。仙童半導體公司也是***個擁有自對齊柵極的硅柵集成電路技術(shù)的公司，這是所有現(xiàn)代CMOS集成電路的基礎。這項技術(shù)是由意大利物理學家FedericoFaggin在1968年發(fā)明的。1970年，他加入了英特爾，發(fā)明了***個單芯片中央處理單元(CPU)微處理器——英特爾4004，他因此在2010年得到了國家技術(shù)和創(chuàng)新獎章。4004是由Busicom的嶋正利和英特爾的泰德·霍夫設計的，但正是Faggin在1970年改進的設計使其成為現(xiàn)實。| 無錫微原電子科技，讓集成電路芯片更加穩(wěn)定可靠。北京集成電路芯片構(gòu)件

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截至 2018 年，絕大多數(shù)晶體管都是使用平坦的二維平面工藝，在硅芯片一側(cè)的單層中制造的。研究人員已經(jīng)生產(chǎn)了幾種有希望的替代品的原型，例如:堆疊幾層晶體管以制造三維集成電路(3DC)的各種方法，例如硅通孔，“單片 3D”， 堆疊引線接合， 和其他方法。由其他材料制成的晶體管:石墨烯晶體管 s .輝鉬礦晶體管,碳納米管場效應晶體管,氮化鎵晶體管，類似晶體管納米線電子器件,有機晶體管等等。在小硅球的整個表面上制造晶體管。 對襯底的修改，通常是為了制造用于柔性顯示器或其它柔性電子學的柔性晶體管，可能向卷軸式計算機的方向發(fā)展。   隨著制造越來越小的晶體管變得越來越困難，公司正在使用多晶片模組、三維晶片、3D 與非門、封裝在封裝上和硅穿孔來提高性能和減小尺寸，而不必減小晶體管的尺寸新吳區(qū)集成電路芯片功能

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