不傷銅的ITO蝕刻液原理是什么？

舉報

蘇州圣天邁電子科技有限公司2023-10-05

不傷銅的ITO蝕刻液的原理主要是通過蝕刻劑和添加劑的特殊組合，實現(xiàn)在蝕刻ITO的同時，保護銅層不受損害。蝕刻劑的主要作用是溶解ITO層，常見的蝕刻劑包括酸性蝕刻劑和氧化劑。酸性蝕刻劑如氟化氫銨(NH4HF2)或氟化氫(HF)可以快速蝕刻ITO層，而氧化劑如過氧化氫(H2O2)或高錳酸鉀(KMnO4)可以將ITO氧化成可溶性物質，促進ITO的蝕刻。添加劑的主要作用是保護銅層，同時調(diào)節(jié)蝕刻液的酸堿平衡和粘度等性質。常見的添加劑包括弱酸性物質如甘氨酸、丙氨酸等，這些物質可以減緩ITO的蝕刻速率，避免銅層受到過大的損害。此外，一些有機聚合物如聚乙烯吡咯烷酮(PVP)也被用作添加劑，它們可以提高蝕刻液的蝕刻速率和選擇性。不傷銅的ITO蝕刻液通過優(yōu)化蝕刻劑和添加劑的配比，實現(xiàn)保護銅層、提高蝕刻速率和選擇性的目的。需要注意的是，不同的蝕刻液配方和添加劑會影響其性能和蝕刻結果，因此在使用蝕刻液時需要仔細考慮其成分和性質。