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在半導體制造中,快速退火工藝(RTP)起到一個什么作用?

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東莞市晟鼎精密儀器有限公司2024-07-25

在半導體制造中,快速熱處理(RTP)被認為是半導體制程的一個重要步驟。因為半導體材料在晶體生長和制造過程中,由于各種原因會出現(xiàn)缺陷、雜質、位錯等結構性缺陷,導致晶格不完整,施加電場后的電導率較低。需要通過RTP快速退火爐進行退火處理,可以使材料得到修復,結晶體內部重新排列,可以消除硅片中的應力,jihuo或遷移雜質,使沉積或生長的薄膜更加致密化,并修復硅片加工中的離子注入損傷。RTP快速退火爐通常還用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長等應用。

東莞市晟鼎精密儀器有限公司
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簡介:晟鼎精密主營產(chǎn)品RTP快速退火爐、等離子清洗機、等離子去膠機、接觸角測量等表面性能處理及檢測設備。
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