真空鍍膜機(jī)的原理是利用物理的氣相沉積原理和離子輔助沉積技術(shù)。在真空室內(nèi)，通過(guò)加熱源將目標(biāo)材料蒸發(fā)成氣體，然后通過(guò)離子源產(chǎn)生離子束，對(duì)氣體進(jìn)行加速，使其在待鍍物表面沉積形成薄膜。這種原理可以提高薄膜的致密性和附著力，適用于一些特殊要求的鍍膜。

真空鍍膜機(jī)的原理是利用物理的氣相沉積原理和化學(xué)反應(yīng)沉積技術(shù)。在真空室內(nèi)，通過(guò)加熱源將目標(biāo)材料蒸發(fā)成氣體，然后通過(guò)引入反應(yīng)氣體，在待鍍物表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，使其沉積形成薄膜。這種原理可以實(shí)現(xiàn)對(duì)復(fù)雜化合物的鍍膜，如氧化物、氮化物等。