技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管及其制備方法，在不影響光電二極管響應(yīng)度的前提下，解決了硅基光電二極管響應(yīng)速度慢的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管，包括背面設(shè)有背面電極的襯底；襯底正面依次設(shè)有高反層、外延層、注入層、氧化硅層、氮化硅層和正面金屬電極；所述的高反層上開(kāi)設(shè)有用于形成電流路徑的刻蝕孔，以及與正面金屬電極相對(duì)應(yīng)的刻蝕區(qū)；所述的注入層包括保護(hù)環(huán)以及設(shè)在其內(nèi)的有源區(qū)；所述的正面金屬電極還貫穿氧化硅層、氮化硅層與有源區(qū)相連接。所述的襯底為電阻率20～100為ohm·cm的硅基襯底，襯底背面直接做金屬化處理形成背面電極。所述的高反層由折射率～～；高反層上開(kāi)設(shè)的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔，或者為同心環(huán)形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時(shí)，孔直徑為10～50um，孔間距為15～50um，圓形孔的總面積為結(jié)面積的1/2；所述的刻蝕孔為同心環(huán)形孔時(shí)，同心環(huán)中心與正面金屬電極的中心重合，同心環(huán)中心為刻蝕區(qū)，相鄰環(huán)間距5～20um。所述的外延層淀積在高反層上；在外延層上分別以n型離子注入形成保護(hù)環(huán)。硅光電二極管參數(shù)哪家棒！世華高。進(jìn)口硅光電二極管參數(shù)

    主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。所述的有源區(qū)為b離子源注入，注入劑量為1e15～2e15；所述的正面金屬電極是在濺射al之后刻蝕形成。與現(xiàn)有技術(shù)相比。國(guó)產(chǎn)硅光電二極管找哪家硅光電二極管電路哪家好？世華高。

    其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。實(shí)施例一一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，具體步驟如下：稱取、，依次加入2ml乙酸、6ml乙醇和6ml水，攪拌一定時(shí)間，使固體粉末完全溶解；然后，加入，攪拌24h，得到紡絲溶液；移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中，設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù)：注射器推進(jìn)速度3mm/h，紡絲電壓18kv，接收距離8cm，滾筒轉(zhuǎn)速200r/min，在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維，150℃烘箱中干燥過(guò)夜，烘干后置于600℃馬弗爐中煅燒2h，熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極；配制30ml濃度為5mmol/l硝酸鋅、5mmol/l碲酸鈉和，攪拌均勻，轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中；將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi)，fto導(dǎo)電面朝下，密封水熱反應(yīng)釜，置于恒溫干燥箱中，160℃水熱反應(yīng)10h；反應(yīng)結(jié)束，取出fto電極，水洗3次，60℃下真空干燥8h；干燥后，將薄膜放入管式爐內(nèi)，氮?dú)獗Ｗo(hù)條件下煅燒。

    本發(fā)明屬于光電催化技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法，可以實(shí)現(xiàn)znte光生載流子的定向分離，并加速界面co2還原反應(yīng)的活性。背景技術(shù)：能源危機(jī)和溫室效應(yīng)是人類目前急需解決的關(guān)鍵科學(xué)難題，以太陽(yáng)能驅(qū)動(dòng)的co2還原為解決這些問(wèn)題提供了一個(gè)理想的途徑，該反應(yīng)綠色、**，條件溫和，吸引了多國(guó)和科研人員的目光。光電催化反應(yīng)技術(shù)整合光催化和電催化技術(shù)的優(yōu)勢(shì),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)co2還原更高的效率和更理想的選擇性。目前，光電催化co2還原的效率依然很低，太陽(yáng)能到化學(xué)能的轉(zhuǎn)化效率遠(yuǎn)低于工業(yè)應(yīng)用所需的10％效率，根本原因在于載流子復(fù)合嚴(yán)重，界面反應(yīng)動(dòng)力學(xué)緩慢。為了推進(jìn)光電催化co2還原技術(shù)的實(shí)際應(yīng)用，關(guān)鍵是開(kāi)發(fā)**載流子分離的光陰極材料。znte是一種可見(jiàn)光響應(yīng)的p型半導(dǎo)體()，其導(dǎo)帶邊電勢(shì)()遠(yuǎn)負(fù)于其它半導(dǎo)體，能克服co2還原的熱力學(xué)勢(shì)壘，是目前光(電)催化co2還原的理想材料。但是，單一znte光電極材料依然無(wú)法**分離光生載流子，大部分載流子在界面反應(yīng)發(fā)生之前復(fù)合損失。構(gòu)建半導(dǎo)體納米異質(zhì)結(jié)是分離光生載流子的通用途徑，但該方法往往需要兩個(gè)半導(dǎo)體之間的能帶匹配，且兩相界面需有利于載流子傳輸。這樣，很大地限制了半導(dǎo)體材料的選擇。因此。濱松光電二極管選世華高半導(dǎo)體。

    便于操作人員將高壓二極管硅疊從石英玻璃罩1中取出；上固定板3的一側(cè)設(shè)有控制面板，控制面板的一側(cè)固定設(shè)有電磁鐵開(kāi)關(guān)、溫度檢測(cè)儀開(kāi)關(guān)、熔深檢測(cè)儀開(kāi)關(guān)和感應(yīng)線圈開(kāi)關(guān)，電磁鐵6、溫度檢測(cè)儀13、熔深檢測(cè)儀14分別通過(guò)電磁鐵開(kāi)關(guān)、溫度檢測(cè)儀開(kāi)關(guān)、熔深檢測(cè)儀開(kāi)關(guān)和感應(yīng)線圈開(kāi)關(guān)與外接電源電性連接。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司（SIVAGO）成立于2004年，總部設(shè)在深圳，主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地，負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展，世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。感應(yīng)線圈16通過(guò)感應(yīng)線圈開(kāi)關(guān)與高頻加熱電源電性連接，真空電磁閥9、微型真空泵10、氮?dú)怆姶砰y11和氮?dú)獬錃獗?2均通過(guò)plc控制器4與外接電源電性連接。具體使用時(shí)，本實(shí)用新型一種高壓二極管硅疊中頻真空焊接系統(tǒng)，將待焊接硅疊放置在石英玻璃罩1下端的下固定板7上，放置好后。硅光電二極管供應(yīng)商就找世華高！汕頭國(guó)產(chǎn)硅光電二極管

硅光電二極管廠家選擇世華高！進(jìn)口硅光電二極管參數(shù)

    世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu)，分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成；2)利用等離子刻蝕機(jī)在高反層109上以干法刻蝕開(kāi)設(shè)刻蝕孔，并刻蝕掉與正面金屬電極106相對(duì)的高反層109；3)刻蝕完成后，在高反層109上以化學(xué)氣相淀積的方法生長(zhǎng)電阻率500～1000ohm·cm的n-外延層，其厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng)；4)在外延層101上以as離子源進(jìn)行n型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成保護(hù)環(huán)102。與保護(hù)環(huán)102間距12～20um，在外延層101上以b離子源進(jìn)行p型離子注入，注入劑量1e15～2e15，形成有源區(qū)103；5)在保護(hù)環(huán)102和有源區(qū)103上通過(guò)熱氧化法生成sio2層104，在sio2層上方淀積生長(zhǎng)si3n4層105；6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔，然后濺射al，并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106；7)在襯底107背面直接進(jìn)行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實(shí)施例。實(shí)施例11)在n+重?fù)诫s的襯底107上濺射生成厚度3～5um的高反層109，2)利用等離子刻蝕機(jī)干法刻蝕工藝在高反層109刻孔；3)高反層109上通過(guò)淀積的方法生長(zhǎng)n-外延層101。進(jìn)口硅光電二極管參數(shù)