其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。因此擴(kuò)散時(shí)間很短;從而實(shí)現(xiàn)硅基光電二極管高響應(yīng)度與高響應(yīng)速度同時(shí)提升。該結(jié)構(gòu)中,襯底材料107不用進(jìn)行背面處理,直接與金屬形成良好的歐姆接觸;外延層厚度取決于耗盡區(qū)寬度。進(jìn)一步的,所述外延層101的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層101厚度wepi根據(jù)耗盡區(qū)寬度wd確定:wepi≈wd,而wd≥w入/2,其中w入=f(λ),w入為入射光入射深度,λ為入射光波長(zhǎng);所述的高反層109由折射率~~;高反層109上開(kāi)設(shè)的刻蝕孔為矩陣排列的圓形孔,或者為同心環(huán)形孔。所述的刻蝕孔為均勻分布的圓形孔時(shí),孔直徑為10~50um,孔間距為15~50um,圓形孔的總面積為結(jié)面積的1/2;所述的刻蝕孔為同心環(huán)形孔時(shí),同心環(huán)中心與正面金屬電極106的中心重合,同心環(huán)中心為刻蝕區(qū),相鄰環(huán)間距5~20um。具體的,高反層109可以為多孔結(jié)構(gòu),可采用矩陣排列(比如采用正方形陣列排列)。世華高硅光電二極管性能穩(wěn)定,技術(shù)成熟。深圳硅pin硅光電二極管
其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。采用上海辰華chi660e電化學(xué)工作站,將極化后的sr摻雜batio3/znte工作電極和飽與鉑片對(duì)電極、飽和甘汞電極組裝成典型的三電極體系,電解質(zhì)溶液為。光電流測(cè)試前,往電解質(zhì)溶液中鼓co2半個(gè)小時(shí),使溶液中的氧氣排盡,co2濃度達(dá)到飽和。圖3為本實(shí)施例制備的sr摻雜batio3/znte工作電極和水熱法制備的znte薄膜電極的性掃描伏安法圖,掃描速度為20mv/s。由圖可知,znte電極經(jīng)sr摻雜batio3鐵電材料修飾后,光電流密度增加,且co2還原的起始電位正移,說(shuō)明鐵電材料的極化場(chǎng)對(duì)znte電極的光電流具有明顯的促進(jìn)作用。在可見(jiàn)光照射下,有znte被激發(fā),說(shuō)明復(fù)合材料光電流的提升來(lái)自于鐵電材料的改性作用。實(shí)施例三稱取、,依次加入2ml乙酸、8ml乙醇和8ml水,攪拌一定時(shí)間,使固體粉末完全溶解;然后,加入,攪拌24h,得到紡絲溶液;移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中。南京濱松硅光電二極管參數(shù)濱松光電二極可選世華高。
主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。所述的有源區(qū)為b離子源注入,注入劑量為1e15~2e15;所述的正面金屬電極是在濺射al之后刻蝕形成。與現(xiàn)有技術(shù)相比。
深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管及其制備方法。背景技術(shù):硅基光電二極管由于其材料成本造工藝簡(jiǎn)單,響應(yīng)度峰值波長(zhǎng)為940nm,在3dsensor、紅外測(cè)距、光通訊等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。由于光在硅中的入射深度跟入射光波長(zhǎng)相關(guān),波長(zhǎng)越長(zhǎng),入射越深,因此為了提高響應(yīng)度,傳統(tǒng)光電二極管均選用高阻材料(電阻率2000~5000ohmcm)來(lái)提升耗盡區(qū)寬度,從而達(dá)到提高響應(yīng)度的目的。隨著光電二極管在光通訊中的廣泛應(yīng)用,光電二極管的響應(yīng)速度要求越來(lái)越高,常規(guī)硅基光電二極管響應(yīng)時(shí)間為納秒級(jí),已無(wú)法滿足數(shù)據(jù)傳輸率1gbps以上的應(yīng)用場(chǎng)景,因此。濱松光電二極管哪家棒!世華高。
深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。據(jù)外媒報(bào)道,韓國(guó)浦項(xiàng)工科大學(xué)(PohangUniversityofScienceandTechnology)的一組研究人員已經(jīng)研發(fā)出近紅外(NIR)硅光電二極管,比現(xiàn)有的光電二極管靈敏度高出三分之一?,F(xiàn)有的近紅外光電二極管通常由化學(xué)材料制成,需要單獨(dú)的冷卻裝置,很難集成。而浦項(xiàng)工科大學(xué)Chang-KiBaek教授領(lǐng)導(dǎo)的一組研究人員采用沙漏型的硅納米線,增加了硅對(duì)紅外光的吸收。位于納米線上方,倒轉(zhuǎn)的納米錐通過(guò)產(chǎn)生回音壁式共振,延長(zhǎng)了近紅外-短波紅外(SWIR)光子的停留時(shí)間,而下方的納米錐由于反射率低,能夠重新吸收附近納米線的入射光。與現(xiàn)有的平板硅光電子二極管相比,該納米線在1000納米波長(zhǎng)下。濱松光電二極管哪家好?世華高好。深圳硅pin硅光電二極管
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6)在sio2層104、si3n4層105上刻出接觸孔,然后濺射金屬,濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極106;7)在襯底107的背面做金屬化處理形成背面電極108。進(jìn)一步的,所述的襯底107采用電阻率20~100為ohm·cm的低電阻率硅材料;襯底107直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸;所述的高反層109是由折射率~~,通過(guò)化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜技術(shù)生成;所述的外延層101的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層101的厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng);所述的保護(hù)環(huán)102為as離子源注入,注入劑量為1e15~2e15。所述的有源區(qū)103為b離子源注入,注入劑量為1e15~2e15;所述的正面金屬電極106是在濺射al之后刻蝕形成。具體的,包括以下操作:1)以在n+摻雜硅材料作為襯底107,在其上通過(guò)化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜生成厚度3~5um的高反層109;其中。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展。深圳硅pin硅光電二極管
該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開(kāi)關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過(guò)十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國(guó)、印度、泰國(guó)、伊朗、香港等多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。所述方法由以下步驟組成:1)以乙酸鋇、乙酸鍶和鈦酸四丁酯為原料,溶解于乙酸、乙醇和水的混合溶液中,加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10-30%的聚乙烯吡絡(luò)烷酮,攪拌24h,得到紡絲溶液;2)采用靜電紡絲機(jī)制備sr摻雜batio3納米纖維薄膜電極:將步驟1所述紡絲溶...