加速度傳感器是很早廣泛應用的MEMS之一。MEMS,作為一個機械結構為主的技術,可以通過設計使一個部件(圖中橙色部件)相對底座substrate產(chǎn)生位移(這也是絕大部分MEMS的工作原理),這個部件稱為質量塊(proofmass)。質量塊通過錨anchor,鉸鏈hinge,或彈簧spring與底座連接。鉸鏈或懸臂梁部分固定在底座。當感應到加速度時,質量塊相對底座產(chǎn)生位移。通過一些換能技術可以將位移轉換為電能,如果采用電容式傳感結構(電容的大小受到兩極板重疊面積或間距影響),電容大小的變化可以產(chǎn)生電流信號供其信號處理單元采樣。通過梳齒結構可以極大地擴大傳感面積,提高測量精度,降低信號處理難度。加速度計還可以通過壓阻式、力平衡式和諧振式等方式實現(xiàn)。MEMS微流控芯片是什么?黑龍江MEMS微納米加工廠家電話
光學領域上面較成功的應用科學研究主要集中在兩個方面:一是基于MOEMS的新型顯示、投影設備,主要研究如何通過反射面的物理運動來進行光的空間調制,典型標識為數(shù)字微鏡陣列芯片和光柵光閥。
二是通信系統(tǒng),主要研究通過微鏡的物理運動來控制光路發(fā)生預期的改變,較成功的有光開關調制器、光濾波器及復用器等光通信器件。MOEMS是綜合性和學科交叉性很強的高新技術,開展這個領域的科學技術研究,可以帶動大量的新概念的功能器件開發(fā)。 高科技MEMS微納米加工圖片MEMS超表面對光電場特性的調控是怎樣的?
射頻MEMS器件分為MEMS濾波器、MEMS開關、MEMS諧振器等。射頻前端模組主要由濾波器、低噪聲放大器、功率放大器、射頻開關等器件組成,其中濾波器是射頻前端中重要的分立器件,濾波器的工藝就是MEMS,在射頻前端模組中占比超過50%,主要由村田制作所等國外公司生產(chǎn)。因為沒有適用的國產(chǎn)5GMEMS濾波器,因此華為手機只能用4G,也是這個原因,可見MEMS濾波器的重要性。濾波器(SAW、BAW、FBAR等),負責接收通道的射頻信號濾波,將接收的多種射頻信號中特定頻率的信號輸出,將其他頻率信號濾除。以SAW聲表面波為例,通過電磁信號-聲波-電磁信號的兩次轉換,將不受歡迎的頻率信號濾除。
高精度姿態(tài)/軌道測量新方法并研制了MEMS磁敏感器、MIMU慣性微系統(tǒng)、MEMS太陽敏感器、納\皮型星敏感器等空間微系統(tǒng),相關成果填補了多項國內(nèi)空白,已在探月工程、高分專項等國家重大工程以及國內(nèi)外百余顆型號衛(wèi)星中得到應用推廣,并實現(xiàn)了出口歐、美、日等國。在我國率先開展了微納航天器的技術創(chuàng)新與工程實踐,將三軸穩(wěn)定方式用于25kg以下的微小衛(wèi)星,成功研制并運行了國內(nèi)納型衛(wèi)星NS-1衛(wèi)星,也是當時世界上在軌飛行的“輪控三軸穩(wěn)定衛(wèi)星”(2004年)。2015年研制并發(fā)射了NS-2(10公斤量級)MEMS技術試驗衛(wèi)星,成功開展了基于MEMS的空間微型化器組件試驗研究。NS-2衛(wèi)星的有效載荷包括納型星敏感器、低功耗MEMS太陽敏感器、硅基MEMS陀螺、MEMS石英音叉陀螺、MEMS磁強計、北斗-II/GPS接收機等自主研發(fā)的MEMS器件及微系統(tǒng)。同時還成功研制并發(fā)射皮型ZJ-1(100克量級)MEMS技術試驗衛(wèi)星,采用單板集成的綜合電子系統(tǒng),搭載試驗商用微型CMOS相機,MEMS磁強計、新型商用電子元器件?;贛EMS技術的RF射頻器件是什么?
MEMS四種刻蝕工藝的不同需求:
1.體硅刻蝕:一些塊體蝕刻些微機電組件制造過程中需要蝕刻挖除較大量的Si基材,如壓力傳感器即為一例,即通過蝕刻硅襯底背面形成深的孔洞,但未蝕穿正面,在正面形成一層薄膜。還有其他組件需蝕穿晶圓,不是完全蝕透晶背而是直到停在晶背的鍍層上。基于Bosch工藝的一項特點,當要維持一個近乎于垂直且平滑的側壁輪廓時,是很難獲得高蝕刻率的。因此通常為達到很高的蝕刻率,一般避免不了伴隨產(chǎn)生具有輕微傾斜角度的側壁輪廓。不過當采用這類塊體蝕刻時,工藝中很少需要垂直的側壁。
2.準確刻蝕:精確蝕刻精確蝕刻工藝是專門為體積較小、垂直度和側壁輪廓平滑性上升為關鍵因素的組件而設計的。就微機電組件而言,需要該方法的組件包括微光機電系統(tǒng)及浮雕印模等。一般說來,此類特性要求,蝕刻率的均勻度控制是遠比蝕刻率重要得多。由于蝕刻劑在蝕刻反應區(qū)附近消耗率高,引發(fā)蝕刻劑密度相對降低,而在晶圓邊緣蝕刻率會相應地增加,整片晶圓上的均勻度問題應運而生。上述問題可憑借對等離子或離子轟擊的分布圖予以校正,從而達到均鐘刻的目的。 有哪些較為前沿的MEMS傳感器公司?青海MEMSMEMS微納米加工
MEMS制作工藝柔性電子的常用材料是什么?黑龍江MEMS微納米加工廠家電話
MEMS制作工藝-光學超表面meta-surface:超表面是指一種厚度小于波長的人工層狀材料。超表面可實現(xiàn)對電磁波偏振、振幅、相位、極化方式、傳播模式等特性的靈活有效調控。超表面可視為超材料的二維對應。
根據(jù)面內(nèi)的結構形式,超表面可以分為兩種:一種具有橫向亞波長的微細結構,一種為均勻膜層。
根據(jù)調控的波的種類,超表面可分為光學超表面、聲學超表面、機械超表面等。光學超表面 是最常見的一種類型,它可以通過亞波長的微結構來調控電磁波的偏振、相位、振幅、頻率等特性,是一種結合了光學與納米科技的新興技術。
其超表面的制作方式,一般會用到電子束光刻技術EBL,通過納米級的直寫,將圖形曝光到各種襯底上,然后經(jīng)過鍍膜或刻蝕形成具有一定相位調控的超表面器件。 黑龍江MEMS微納米加工廠家電話
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