深溝槽工藝對(duì)寄生電容的抑制

SGT MOSFET 的深溝槽結(jié)構(gòu)深度可達(dá) 5-10μm（是傳統(tǒng)平面 MOSFET 的 3 倍以上），通過(guò)垂直導(dǎo)電通道減少電流路徑的橫向擴(kuò)展，從而降低寄生電容。具體而言，柵-漏電容（Cgd）和柵-源電容（Cgs）分別減少 40% 和 30%，使得器件的開(kāi)關(guān)損耗（Eoss=0.5×Coss×V2）大幅下降。以 PANJIT 的 100V SGT 產(chǎn)品為例，其 Qgd（米勒電荷）從傳統(tǒng)器件的 15nC 降至 7nC，開(kāi)關(guān)頻率可支持 1MHz 以上的 LLC 諧振拓?fù)洌m用于高頻快充和通信電源場(chǎng)景。 SGT MOSFET 獨(dú)特的屏蔽柵溝槽結(jié)構(gòu)，優(yōu)化了器件內(nèi)部電場(chǎng)分布，相較于傳統(tǒng) MOSFET，大幅提升了擊穿電壓能力.廣東80VSGTMOSFET供應(yīng)

多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì)與元胞優(yōu)化

為實(shí)現(xiàn)更高功率密度，SGTMOSFET采用多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì)：1場(chǎng)板溝槽，通過(guò)引入與漏極相連的場(chǎng)板，平衡體內(nèi)電場(chǎng)分布，抑制動(dòng)態(tài)導(dǎo)通電阻（RDS(on)）的電流崩塌效應(yīng)；2源極接觸溝槽，縮短源極金屬與硅片的接觸距離，降低接觸電阻（Rcontact）3柵極分割溝槽，將柵極分割為多個(gè)單一單元，減少柵極電阻（Rg）和柵極延遲時(shí)間（td）。通過(guò)0.13μm超細(xì)元胞工藝，元胞密度提升50%，RDS(on)進(jìn)一步降低至33mΩ·mm2（100V產(chǎn)品）。 廣東SOT-23SGTMOSFET廠家現(xiàn)貨屏蔽柵降米勒電容，SGT MOSFET 減少電壓尖峰，穩(wěn)定電路運(yùn)行。

SGT MOSFET 的結(jié)構(gòu)創(chuàng)新在于引入了屏蔽柵。這一結(jié)構(gòu)位于溝槽內(nèi)部，多晶硅材質(zhì)的屏蔽柵極處于主柵極上方。在傳統(tǒng)溝槽 MOSFET 中，電場(chǎng)分布相對(duì)單一，而 SGT MOSFET 的屏蔽柵能夠巧妙地調(diào)節(jié)溝道內(nèi)電場(chǎng)。當(dāng)器件工作時(shí)，電場(chǎng)不再是簡(jiǎn)單的三角形分布，而是在屏蔽柵的作用下，朝著更均勻、更高效的方向轉(zhuǎn)變。這種電場(chǎng)分布的優(yōu)化，降低了導(dǎo)通電阻，提升了開(kāi)關(guān)速度。例如，在高頻開(kāi)關(guān)電源應(yīng)用中，SGT MOSFET 能以更快速度切換導(dǎo)通與截止?fàn)顟B(tài)，減少能量在開(kāi)關(guān)過(guò)程中的損耗，提高電源轉(zhuǎn)換效率，為電子產(chǎn)品的高效運(yùn)行提供有力支持。

在醫(yī)療設(shè)備領(lǐng)域，如便攜式超聲診斷儀，對(duì)設(shè)備的小型化與低功耗有嚴(yán)格要求。SGT MOSFET 緊湊的芯片尺寸可使超聲診斷儀在更小的空間內(nèi)集成更多功能。其低功耗特性可延長(zhǎng)設(shè)備電池續(xù)航時(shí)間，方便醫(yī)生在不同場(chǎng)景下使用，為醫(yī)療診斷提供更便捷、高效的設(shè)備支持。在戶(hù)外醫(yī)療救援或偏遠(yuǎn)地區(qū)醫(yī)療服務(wù)中，便攜式超聲診斷儀需長(zhǎng)時(shí)間依靠電池供電，SGT MOSFET 低功耗優(yōu)勢(shì)可確保設(shè)備持續(xù)工作，為患者及時(shí)診斷病情。其小尺寸特點(diǎn)使設(shè)備更輕便，易于攜帶與操作，提升醫(yī)療服務(wù)可及性，助力醫(yī)療行業(yè)提升診斷效率與服務(wù)質(zhì)量，改善患者就醫(yī)體驗(yàn)。SGT MOSFET 低功耗特性，延長(zhǎng)筆記本續(xù)航，適配其緊湊空間，便捷辦公。

柵極電荷（Qg）與開(kāi)關(guān)性能優(yōu)化

SGTMOSFET的開(kāi)關(guān)速度直接受柵極電荷（Qg）影響。通過(guò)以下技術(shù)降低Qg：1薄柵氧化層：將柵氧化層厚度從500?減至200?，柵極電容（Cg）降低60%；2屏蔽柵電荷補(bǔ)償：利用屏蔽電極對(duì)柵極的電容耦合效應(yīng)，抵消部分米勒電荷（Qgd）；3低阻柵極材料，采用TiN或WSi2替代多晶硅柵極，柵極電阻（Rg）減少50%。利用這些工藝改進(jìn)，可以實(shí)現(xiàn)低的 QG，從而實(shí)現(xiàn)快速的開(kāi)關(guān)速度及開(kāi)關(guān)損耗，進(jìn)而在各個(gè)領(lǐng)域都可得到廣泛應(yīng)用 服務(wù)器電源用 SGT MOSFET，高效轉(zhuǎn)換，降低發(fā)熱，保障數(shù)據(jù)中心運(yùn)行。廣東100VSGTMOSFET標(biāo)準(zhǔn)

SGT MOSFET 運(yùn)用屏蔽柵溝槽技術(shù)，革新了內(nèi)部電場(chǎng)分布，將傳統(tǒng)三角形電場(chǎng)優(yōu)化為近似梯形電場(chǎng).廣東80VSGTMOSFET供應(yīng)

SGT MOSFET 的柵極電荷特性對(duì)其性能影響深遠(yuǎn)。低柵極電荷（Qg）意味著在開(kāi)關(guān)過(guò)程中所需的驅(qū)動(dòng)能量更少。在高頻開(kāi)關(guān)應(yīng)用中，這一特性可大幅降低驅(qū)動(dòng)電路的功耗，提高系統(tǒng)整體效率。以無(wú)線充電設(shè)備為例，SGT MOSFET 低 Qg 的特點(diǎn)能使設(shè)備在高頻充電過(guò)程中保持高效，減少能量損耗，提升充電速度與效率。在實(shí)際應(yīng)用中，低柵極電荷使驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單，減少元件數(shù)量，降低成本，同時(shí)提高設(shè)備可靠性。如在智能手表的無(wú)線充電模塊中，SGT MOSFET 憑借低 Qg 優(yōu)勢(shì)，可在小尺寸空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效充電，延長(zhǎng)手表電池續(xù)航時(shí)間，提升用戶(hù)體驗(yàn)，推動(dòng)無(wú)線充電技術(shù)在可穿戴設(shè)備領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。廣東80VSGTMOSFET供應(yīng)