SGTMOSFET(屏蔽柵溝槽MOSFET)是在傳統(tǒng)溝槽MOSFET基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的新型功率器件,其關(guān)鍵技術(shù)在于深溝槽結(jié)構(gòu)與屏蔽柵極設(shè)計(jì)的結(jié)合。通過(guò)在硅片表面蝕刻深度達(dá)3-5倍于傳統(tǒng)溝槽的垂直溝槽,并在主柵極上方引入一層多晶硅屏蔽柵極,SGTMOSFET實(shí)現(xiàn)了電場(chǎng)分布的優(yōu)化。屏蔽柵極與源極相連,形成...
多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì)與元胞優(yōu)化
為實(shí)現(xiàn)更高功率密度,SGTMOSFET采用多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì):1場(chǎng)板溝槽,通過(guò)引入與漏極相連的場(chǎng)板,平衡體內(nèi)電場(chǎng)分布,抑制動(dòng)態(tài)導(dǎo)通電阻(RDS(on))的電流崩塌效應(yīng);2源極接觸溝槽,縮短源極金屬與硅片的接觸距離,降低接觸電阻(Rcontact)3柵極分割溝槽,將柵極分割為多個(gè)單一單元,減少柵極電阻(Rg)和柵極延遲時(shí)間(td)。通過(guò)0.13μm超細(xì)元胞工藝,元胞密度提升50%,RDS(on)進(jìn)一步降低至33mΩ·mm2(100V產(chǎn)品)。 智能家電電機(jī)控制用 SGT MOSFET,實(shí)現(xiàn)平滑啟動(dòng),降低噪音。江蘇80VSGTMOSFET一般多少錢(qián)
在工業(yè)自動(dòng)化生產(chǎn)線(xiàn)中,大量的電機(jī)與執(zhí)行機(jī)構(gòu)需要精確控制。SGT MOSFET 用于自動(dòng)化設(shè)備的電機(jī)驅(qū)動(dòng)與控制電路,其精確的電流控制與快速的開(kāi)關(guān)響應(yīng),能使設(shè)備運(yùn)動(dòng)更加精細(xì)、平穩(wěn),提高生產(chǎn)線(xiàn)上產(chǎn)品的加工精度與生產(chǎn)效率,滿(mǎn)足工業(yè)自動(dòng)化對(duì)高精度、高效率的要求。在汽車(chē)制造生產(chǎn)線(xiàn)中,機(jī)器人手臂抓取、裝配零部件時(shí),SGT MOSFET 精細(xì)控制電機(jī),確保手臂運(yùn)動(dòng)精度達(dá)到毫米級(jí),提高汽車(chē)裝配質(zhì)量與效率。在電子元器件生產(chǎn)線(xiàn)上,它可精確控制自動(dòng)化設(shè)備速度與位置,實(shí)現(xiàn)元器件高速、精細(xì)貼片,提升電子產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量與產(chǎn)能,推動(dòng)工業(yè)自動(dòng)化向更高水平發(fā)展,助力制造業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)。廣東TOLLSGTMOSFET答疑解惑工業(yè)烤箱溫控用 SGT MOSFET,.調(diào)節(jié)溫度,保障產(chǎn)品質(zhì)量。
從制造工藝的角度看,SGT MOSFET 的生產(chǎn)過(guò)程較為復(fù)雜。以刻蝕工序?yàn)槔?,為?shí)現(xiàn)深溝槽結(jié)構(gòu),需精細(xì)控制刻蝕深度與寬度。相比普通溝槽 MOSFET,其刻蝕深度要求更深,通常要達(dá)到普通工藝的數(shù)倍。在形成屏蔽柵極時(shí),對(duì)多晶硅沉積的均勻性把控極為關(guān)鍵。稍有偏差,就可能導(dǎo)致屏蔽柵極性能不穩(wěn)定,影響器件整體的電場(chǎng)調(diào)節(jié)能力,進(jìn)而影響 SGT MOSFET 的各項(xiàng)性能指標(biāo)。在實(shí)際生產(chǎn)中,先進(jìn)的光刻技術(shù)與精確的刻蝕設(shè)備相互配合,確保每一步工藝都能達(dá)到高精度要求,從而保證 SGT MOSFET 在大規(guī)模生產(chǎn)中的一致性與可靠性,滿(mǎn)足市場(chǎng)對(duì)高質(zhì)量產(chǎn)品的需求。
熱阻(Rth)與散熱封裝創(chuàng)新
SGTMOSFET的高功率密度對(duì)散熱提出更高要求。新的封裝技術(shù)包括:1雙面散熱(Dual Cooling),在TOLL或DFN封裝中引入頂部金屬化層,使熱阻(Rth-jc)從1.5℃/W降至0.8℃/W;2嵌入式銅塊,在芯片底部嵌入銅塊散熱效率提升35%;3銀燒結(jié)工藝,采用納米銀燒結(jié)材料替代焊錫,界面熱阻降低50%。以TO-247封裝SGT為例,其連續(xù)工作結(jié)溫(Tj)可達(dá)175℃,支持200A峰值電流,通過(guò)先進(jìn)技術(shù),可降低熱阻,增加散熱,使得性能更好 先進(jìn)工藝讓 SGT MOSFET 外延層薄,導(dǎo)通電阻低,降低系統(tǒng)能耗。
柵極電荷(Qg)與開(kāi)關(guān)性能優(yōu)化
SGTMOSFET的開(kāi)關(guān)速度直接受柵極電荷(Qg)影響。通過(guò)以下技術(shù)降低Qg:1薄柵氧化層:將柵氧化層厚度從500?減至200?,柵極電容(Cg)降低60%;2屏蔽柵電荷補(bǔ)償:利用屏蔽電極對(duì)柵極的電容耦合效應(yīng),抵消部分米勒電荷(Qgd);3低阻柵極材料,采用TiN或WSi2替代多晶硅柵極,柵極電阻(Rg)減少50%。利用這些工藝改進(jìn),可以實(shí)現(xiàn)低的 QG,從而實(shí)現(xiàn)快速的開(kāi)關(guān)速度及開(kāi)關(guān)損耗,進(jìn)而在各個(gè)領(lǐng)域都可得到廣泛應(yīng)用 3D 打印機(jī)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路采用 SGT MOSFET對(duì)打印頭移動(dòng)與成型平臺(tái)升降的精確控制提高 3D 打印的精度與質(zhì)量。江蘇80VSGTMOSFET一般多少錢(qián)
SGT MOSFET 運(yùn)用屏蔽柵溝槽技術(shù),革新了內(nèi)部電場(chǎng)分布,將傳統(tǒng)三角形電場(chǎng)優(yōu)化為近似梯形電場(chǎng).江蘇80VSGTMOSFET一般多少錢(qián)
極低的柵極電荷(Q<sub>g</sub>)
與快速開(kāi)關(guān)性能SGTMOSFET的屏蔽電極有效屏蔽了柵極與漏極之間的電場(chǎng)耦合,大幅降低了米勒電容(C<sub>GD</sub>),從而減少了柵極總電荷(Q<sub>g</sub>)。較低的Q<sub>g</sub>意味著驅(qū)動(dòng)電路所需的能量更少,開(kāi)關(guān)速度更快。例如,在同步整流Buck轉(zhuǎn)換器中,SGTMOSFET的開(kāi)關(guān)損耗比傳統(tǒng)MOSFET降低40%以上,開(kāi)關(guān)頻率可輕松達(dá)到1MHz~2MHz,適用于高頻電源設(shè)計(jì)。此外,低Q<sub>g</sub>還減少了驅(qū)動(dòng)IC的負(fù)擔(dān),降低系統(tǒng)成本。 江蘇80VSGTMOSFET一般多少錢(qián)
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SGTMOSFET(屏蔽柵溝槽MOSFET)是在傳統(tǒng)溝槽MOSFET基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的新型功率器件,其關(guān)鍵技術(shù)在于深溝槽結(jié)構(gòu)與屏蔽柵極設(shè)計(jì)的結(jié)合。通過(guò)在硅片表面蝕刻深度達(dá)3-5倍于傳統(tǒng)溝槽的垂直溝槽,并在主柵極上方引入一層多晶硅屏蔽柵極,SGTMOSFET實(shí)現(xiàn)了電場(chǎng)分布的優(yōu)化。屏蔽柵極與源極相連,形成...
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