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企業(yè)商機
氮化鋁基本參數
  • 品牌
  • HumiSeal,4A,東京測器
  • 型號
  • 齊全
氮化鋁企業(yè)商機

氮化鋁是氮和鋁的化合物,化學式為AIN,六方晶系。顏色淡藍或綠色。莫氏硬度5。理論密度3.26g/cm2。升華分解溫度2450C,導熱系數高(0.072cal/(cm·C))膨脹系數6.09×10~/C,抗熱震性能好,能耐2200~20℃的急冷急熱。AIN在800C可能被氧化,因而作耐火材料時需加注意,但在1300C左右具有較好的抗氧化性能。溫度更高,因氧化物保護層開裂破壞,氧化加速。AIN不易被液體銅、鋁、鉛潤濕。它與AI2O2非常相容,在1600C下可形成y一氧氮化鋁(y-AION)。y-AION即Sialon(塞?。?化學式3AIN·7ALO2。7-AION的機械性質與AIN相近,而抗化學侵蝕性能比AIN更好,可制造AIN基耐火材料。”-AION抗熱震性優(yōu)于ALO3和MgO等氧化物耐火材料而其抗腐蝕性又優(yōu)于SiC和Si,N,等非氧化物耐火材料。AIN容易水解。介電常數8.5.電阻率2×10"Q-cm,是良好的電絕緣體。作為耐火材料領域的應用,可用AIN質堆塌拉制四、N族元素單晶,還可用AIN制磚砌筑金屬精煉爐內襯,以及用AIN制造金屬熔池用的浸入式熱電偶套管。制約氮化鋁商品化的主要因素就是價格問題。寧波超細氮化鋁粉體哪家好

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氮化鋁粉體的合成方法:自蔓延高溫合成法:該方法為鋁粉的直接氮化,充分利用了鋁粉直接氮化為強放熱反應的特點,將鋁粉于氮氣中點然后,利用鋁和氮氣之間的高化學反應熱使反應自行維持下去,合成AlN。其反應式與Al粉直接氮化法相同,即為2Al+N2→2AlN。化學氣相沉積法:利用鋁的揮發(fā)性化合物與氮氣或氨氣反應,從氣相中沉淀析出氮化鋁粉末;根據選擇鋁源的不同,分為無機物(鹵化鋁)和有機物(烷基鋁)化學氣相沉積法。該工藝存在對設備要求較高,生產效率低,采用烷基鋁為原料會導致成本較高,而采用無機鋁為原料則會生成腐蝕性氣體,所以目前還難以進行大規(guī)模工業(yè)化生產。天津導熱氧化鋁多少錢氮化鋁材料有陶瓷型和薄膜型兩種。

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高導熱氮化鋁基片的燒結工藝重點包括燒結方式、燒結助劑的添加、燒結氣氛的控制等。放電等離子燒結是20世紀90年代發(fā)展并成熟的一種燒結技術,它利用脈沖大電流直接施加于模具和樣品上,產生體加熱使被燒結樣品快速升溫;同時,脈沖電流引起顆粒間的放電效應,可凈化顆粒表面,實現快速燒結,有效地抑制顆粒長大。使用SPS技術能夠在較低溫度下進行燒結,且升溫速度快,燒結時間短。微波燒結是利用特殊頻段的電磁波與介質的相互耦合產生介電損耗,使坯體整體加熱的燒結方法。微波同時提高了粉末顆?;钚裕铀傥镔|的傳遞。微波燒結也是一種快速燒結法,同樣可保證樣品安全衛(wèi)生無污染。雖然機理與放電等離子體燒結有所不同,但是兩者都能實現整體加熱,才能極大地縮短燒結周期,所得陶瓷晶體細小均勻。

氮化鋁具有高熱導率、良好的電絕緣性、低介電常數、無毒等性能,應用前景十分廣闊,特別是隨著大功率和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成電路和基片間散熱的重要性也越來越明顯。因此,基片必須要具有高的導熱率和電阻率。為滿足這一要求,國內外研究學者開發(fā)出了一系列高性能的陶瓷基片材料,其中主要包括:Al2O3、BeO、AlN、BN、Si3N4、SiC,其中氮化鋁是綜合性能很優(yōu)良的新型先進陶瓷材料,被認為是新一代高集成度半導體基片和電子器件的理想封裝材料。燒結過程是氮化鋁陶瓷制備的一個重要階段,直接影響陶瓷的顯微結構如晶粒尺寸與分布、氣孔率和晶界體積分數等。因此燒結技術成為制備高質量氮化鋁陶瓷的關鍵技術。氮化鋁陶瓷常用的燒結技術有無壓燒結、熱壓燒結、放電等離子燒結、微波燒結等。在實際產品中,氮化鋁的晶體結構不能完全均均勻分布,并且存在許多雜質和缺陷。

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氮化鋁膜是指用氣相沉積、液相沉積、表面轉化或其它表面技術制備的氮化鋁覆蓋層。氮化鋁(AIN)是AI-N二元系中穩(wěn)定的相,它具有共價鍵、六方纖鋅礦結構,在常壓下不能熔化,而是在2500K分解它的直接能帶間隙高達6.2eV,也可以通過摻雜成為寬帶隙半導體材料。氮化鋁(AIN)是AI-N二元系中穩(wěn)定的相,它具有共價鍵、六方纖鋅礦結構,在常壓下不能熔化,而是在2500K分解它的直接能帶間隙高達6.2eV,也可以通過摻雜成為寬帶隙半導體材料。氮化鋁的電阻率較高,熱膨脹系數低,硬度高,化學穩(wěn)定性好但與一般絕緣體不同,它的熱導率也很高。氮化鋁在整個可見光和紅外頻段都具有很高的光學透射率。氮化鋁防導熱性好,熱膨脹系數小,是良好的耐熱沖擊材料。廣州球形氧化鋁價格

陶瓷注射成型技術是一種制造復雜形狀陶瓷零部件的新興技術。寧波超細氮化鋁粉體哪家好

AlN陶瓷金屬化的方法主要有:化學鍍金屬化法是在沒有外電流通過的情況下,利用還原劑將溶液中的金屬離子還原在呈催化活性的物體表面上,在物體表面形成金屬鍍層?;瘜W鍍法金屬化的結合強度很大程度上依賴于基體表面的粗糙度,在一定范圍內,基體表面的粗糙度越大,結合強度越高;另一方面,化學鍍金屬化法的附著性不佳,且金屬圖形的制備仍需圖形化工藝實現。激光金屬化法利用激光的熱效應使AlN表面發(fā)生熱分解,直接生成金屬導電層。激光照射到AlN陶瓷表面后,陶瓷表面吸收激光的能量,表面溫度上升。當AlN表面溫度達到熱分解溫度時,AlN表面就會發(fā)生熱分解,析出金屬鋁。具有成本低、效率高、設備維護簡單等優(yōu)點,在生產實踐中得到了較廣的應用。但是,激光金屬化也同樣面臨著許多問題,如:金屬化層表面生成團聚物并呈多孔性,金屬化層的附著性差和金屬厚度不均等。寧波超細氮化鋁粉體哪家好

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