騰田化學(xué)技術(shù)（上海）技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：騰田化學(xué)），騰田化學(xué)坐落于上海五角場(chǎng)萬(wàn)達(dá)廣場(chǎng)，依托復(fù)旦大學(xué)·東華大學(xué)·華東理工大學(xué)·中科院有機(jī)所·上海石油商品研究所就相關(guān)材料領(lǐng)域建立研發(fā)中心，憑借強(qiáng)大的科研實(shí)力，多年豐富的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，共同建立化工材料分析中心與新材料研發(fā)中心;騰田化學(xué)致力于化工行業(yè)材料檢測(cè)、材料分析、配方還原、新領(lǐng)域新材料的研發(fā)；加快新項(xiàng)目整體研發(fā)進(jìn)度，縮短研發(fā)周期，推動(dòng)化工產(chǎn)業(yè)自主研發(fā)的進(jìn)程.為企業(yè)提供一站式服務(wù)。騰田化學(xué)作為國(guó)內(nèi)的配方及研發(fā)技術(shù)有限公司，騰田化學(xué)技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有豐富研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，與多所高校及研究所建立研究性合作平臺(tái)，擁有前列的技術(shù)研發(fā)平臺(tái)、雄厚的科研技術(shù)力量以及精密的高科技儀器設(shè)備；有標(biāo)準(zhǔn)的圖譜庫(kù)；材料庫(kù)；完善的數(shù)據(jù)庫(kù)；能夠有效的解決某些前列領(lǐng)域特殊產(chǎn)品**能性助劑的定性定量分析及研發(fā)技術(shù)服務(wù)，為企業(yè)解決在研發(fā)中遇到的難題，突破多領(lǐng)域技術(shù)瓶頸；并且與化工行業(yè)上百家有規(guī)模企業(yè)建立長(zhǎng)期技術(shù)合作；騰田化學(xué)中心擁有強(qiáng)大的技術(shù)研發(fā)團(tuán)隊(duì)：由數(shù)位工程師在新材料前列領(lǐng)域已幫助多家企業(yè)解決實(shí)際生產(chǎn)問題，協(xié)助企業(yè)成功自主研發(fā)**產(chǎn)品項(xiàng)目很多項(xiàng)。剝離液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好？廣東京東方用的蝕刻液剝離液

    技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，可用于微納制造，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)，生物領(lǐng)域，mems領(lǐng)域，nems領(lǐng)域。技術(shù)背景：微納制造技術(shù)是衡量一個(gè)國(guó)家制造水平的重要標(biāo)志，對(duì)提高人們的生活水平，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)發(fā)展與經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)，保障**安全等方法發(fā)揮著重要作用，微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ)?；诎雽?dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù)是**常用的手段之一。對(duì)于納米孔的加工，常用的手段是先利用曝光負(fù)性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結(jié)構(gòu)，再通過金屬的沉積和溶膠實(shí)現(xiàn)圖形反轉(zhuǎn)從而得到所需要的納米孔。然而傳統(tǒng)的方法由于光刻過程中的散焦及臨近效應(yīng)等會(huì)造成曝光后的微納結(jié)構(gòu)側(cè)壁呈現(xiàn)一定的角度(如正梯形截面)，這會(huì)造成蒸發(fā)過程中的掛壁嚴(yán)重從而使lift-off困難。同時(shí)由于我們常用的高分辨的負(fù)膠如hsq，在去膠的過程中需要用到危險(xiǎn)的氫氟酸，而氫氟酸常常會(huì)腐蝕石英，氧化硅等襯底從而影響器件性能，特別的，對(duì)于跨尺度高精度納米結(jié)構(gòu)的制備在加工效率和加工能力方面面臨著很大的挑戰(zhàn)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：：為了克服上述技術(shù)問題，本發(fā)明公開了一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法。廣東京東方用的蝕刻液剝離液上海和輝光電用的哪家的剝離液？

    添加劑中含有醇醚化合物、胺化合物、緩蝕劑以及潤(rùn)濕劑；s3：將步驟s1的剝離液廢液與添加劑混合，重新制備剝離液新液，制備過程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻膠剝離液為純有機(jī)溶劑體系，廢液可通過蒸餾回收80-95％有效物，得出純化液體，而在上述制備方式中，純化液體所含的組分與添加劑所含的組分之間是具有相重復(fù)的，可以認(rèn)為，添加劑是根據(jù)已知的剝離液新液的組分進(jìn)行配制的，添加劑可以是對(duì)純化液體與剝離液新液之間的組分的差別而進(jìn)行的添加、補(bǔ)充，使得純化液體和添加劑混合后，能夠具有與剝離液新液相同的組分。那么，可以知道，在預(yù)先知道剝離液新液的組分的基礎(chǔ)上，可以通過預(yù)先配制含有剝離液新液中的某些組分的添加劑，然后在制備回收的剝離液廢液得出純化液體時(shí)，可以將添加劑加入純化液體中，再進(jìn)行質(zhì)量分?jǐn)?shù)的調(diào)節(jié)。純化液體是將剝離液廢液進(jìn)行加壓、蒸餾，去除剝離液廢液中的非剝離液新液的組分的物質(zhì)，然后得出的純化液體，純化液體中所含的組分物質(zhì)，都是剝離液新液所含有的組分物質(zhì)。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟1中得出的純化液體中含有的酰胺化合物的質(zhì)量分為：45％-60％；含有的醇醚化合物的質(zhì)量分為：35％-50％。

隨著電子元器件制作要求的提高，相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對(duì)濕電子化學(xué)品純度的要求也 不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢(shì)，并規(guī)范世 界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）將濕電子化學(xué)品按金 屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個(gè)數(shù)和應(yīng)用范圍等指標(biāo)制定國(guó)際等級(jí)分類標(biāo)準(zhǔn)。濕電子化 學(xué)品在各應(yīng)用領(lǐng)域的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)有所不同，光伏太陽(yáng)能電池領(lǐng)域一般只需要 G1 級(jí)水平；平板顯示和 LED 領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的等級(jí)要求為 G2、G3 水平；半導(dǎo)體領(lǐng)域中， 集成電路用濕電子化學(xué)品的純度要求較高，基本集中在 G3、G4 水平，分立器件對(duì) 濕電子化學(xué)品純度的要求低于集成電路，基本集中在 G2 級(jí)水平。一般認(rèn)為，產(chǎn)生集 成電路斷絲、短路等物理性故障的雜質(zhì)分子大小為**小線寬的 1/10。因此隨著集成 電路電線寬的尺寸減少，對(duì)工藝中所需的濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。從 技術(shù)趨勢(shì)上看，滿足納米級(jí)集成電路加工需求是超凈高純?cè)噭┙窈蟀l(fā)展方向之一。天馬微電子用的哪家的剝離液？

    用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3：有少量殘?jiān)?：基本能剝離，但一部分殘?jiān)?：一半以上能剝離，但一部分殘?jiān)?：基本不能剝離，但一部分剝離7：不能剝離【表2】由該結(jié)果可知，在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發(fā)明組成，與使用氫氧化鈉的比較組成相比，即使l/s狹窄，也能除去抗蝕劑。(3)剝離性能的評(píng)價(jià)方法將液溫設(shè)為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗(yàn)片實(shí)施剝離處理，將試驗(yàn)片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90％以上被剝離的時(shí)刻作為剝離時(shí)間。另外，剝離片尺寸(長(zhǎng)邊)是采集噴涂停止后附著于設(shè)置于試驗(yàn)基板固定用的臺(tái)上的排渣用網(wǎng)眼的剝離片以目視實(shí)施的。此時(shí)的噴涂裝置的條件設(shè)為全錐噴嘴且流量5l/min、壓力。將其結(jié)果示于表3。(4)金屬的浸蝕性的評(píng)價(jià)方法利用上述評(píng)價(jià)方法實(shí)施將噴涂運(yùn)行時(shí)間固定在10分鐘的處理。其后，將基板的鍍銅部位通過電子顯微鏡(日立高新技術(shù)制：s-3400n)按照以下的評(píng)價(jià)基準(zhǔn)評(píng)價(jià)表面形狀。其結(jié)果也示于表3。<金屬浸蝕性的評(píng)價(jià)基準(zhǔn)>(分?jǐn)?shù))(內(nèi)容)1：沒有變化2：極略微有變化(用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3：略有變化4：發(fā)生***變色【表3】剝離時(shí)間(sec)剝離片尺寸。維信諾用的哪家的剝離液？合肥配方剝離液費(fèi)用

好的剝離液的標(biāo)準(zhǔn)是什么。廣東京東方用的蝕刻液剝離液

    這些溶纖劑可以使用1種或組合使用2種以上。本發(fā)明剝離液中的溶纖劑的含量沒有特別限定，例如，推薦～，更推薦～，特別推薦～。本發(fā)明剝離液中，為了抑制對(duì)金屬的浸蝕性，推薦還含有硅酸鹽。硅酸鹽沒有特別限定，例如，可以舉出硅酸鉀、硅酸鈉等。這些之中推薦硅酸鉀。本發(fā)明剝離液中的硅酸鹽的含量沒有特別限定，例如，推薦～，更推薦～，特別推薦～。需要說明的是，本發(fā)明剝離液中，推薦*由上述成分構(gòu)成，但只要不阻礙本發(fā)明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是，本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定，但通常**將上述成分溶于水就成為堿性，因此沒有特別必要調(diào)整ph。另外，本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分分別分開預(yù)先溶于水，成為抗蝕劑的剝離液套件，將它們混合來制備。具體來說，可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過使用本發(fā)明剝離液對(duì)施加有抗蝕劑的基材進(jìn)行處理，抗蝕劑被細(xì)小地粉碎。廣東京東方用的蝕刻液剝離液

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