所述九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟異丁基烷基醚組成。5.權(quán)利要求14中任一項(xiàng)的組合物，特征在于，所述組合物是共沸的或共沸型的。6.權(quán)利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含515重量％的甲基四氫呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。7.共沸組合物，其包含8重量％的甲基四氫呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn)。8.權(quán)利要求5的組合物，特征在于，所述組合物包含1040重量％的甲基四氫呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。9.共沸組合物，其包含％的甲基四氫呋喃和％的九氟丁基乙基醚，并且在大氣壓()下具有°C的沸點(diǎn)。10.制冷劑，特征在于，其包含前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的組合物。11.溶劑，特征在于，其包含權(quán)利要求19中任一項(xiàng)的組合物。全文摘要本發(fā)明涉及含有全氟丁基醚的共沸或共沸型混合物或組合物。更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及含有至少一種九氟丁基烷基醚和可生物降解化合物的組合物，該組合物可用作溶劑或制冷劑。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司專業(yè)生產(chǎn)BOE蝕刻液。一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式

    此處所描述的具體實(shí)施例用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括：電解槽1、射流器2、再生液調(diào)配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液，電解槽1對(duì)該酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅，產(chǎn)生氯氣，得到電解后液，并且，產(chǎn)生的氯氣通過(guò)位于上方的出氣口排出，電解后液通過(guò)位于下方的出液口排出。射流器2包括混氣室21和擴(kuò)散管22，混氣室21和擴(kuò)散管22之間為喉管，混氣室21具有進(jìn)氣口2a、進(jìn)液口2b、出液口2c，擴(kuò)散管22連接至出液口2c，進(jìn)氣口2a通過(guò)導(dǎo)氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣，擴(kuò)散管22深入到再生液調(diào)配缸3中。再生液調(diào)配缸3具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口，進(jìn)液口通過(guò)管道b與電解槽1的出液口連接以接收電解后液。液體泵4的一端通過(guò)管道b連接再生液調(diào)配缸3的循環(huán)出液口，另一端通過(guò)管道b連接射流器2的進(jìn)液口2b，用于將再生液調(diào)配缸3中的電解后液通過(guò)管道b抽取至射流器2的進(jìn)液口2b。電解槽1電解提銅后，陽(yáng)極產(chǎn)生的氯氣通過(guò)導(dǎo)氣管a進(jìn)入到射流裝置2的混氣室21內(nèi)，電解后液通過(guò)液體泵4打入到射流裝置2的混氣室21，在混氣室21形成真空，在喉管處氯氣與電解后液劇烈混合。福建應(yīng)用BOE蝕刻液供應(yīng)商ITOBOE蝕刻液的配方是什么？

    Parasurtidoresencabezalelectrónicoadosadoasucuerpooalacolumnademangueras.)Lasbarrerasdevaportipo1cumpliránlosrequisitossiguientes:1)Labarreradeprotecciónserácontinua;permitiráelpasodecablesytuberíasrí)Elpasodecablesserealizará(EN50018),clá)Nosepercibiráfugaalgunaalaplicaralabarreraunapresióndiferencialdenomenosde1,5bar,)Labarreradevaporcubrirátodalazona1,)Elgradodeprotecciónmecánicadelabarreraserá.oBarrerasdevaportipo2.(Parasurtidoresconcabezalelectrónicoseparadodesucuerpoodelacolumnademanguerasaunadistancianoinferiorde15mm.)Lasbarrerasdevaportipo2cumpliránlosrequisitossiguientes:1)Labarrerapermitiráelpasodetuberías,cablesyejesríánlapruebaderespiraciónrestringida(CEI)yconsistirá)Elpasodecableenambasbarrerasserealizará)Elgradodeproteccióndecadabarreraseráónserepresentanlosdetallestípicosdeclasificacióndelossurtidoresenfuncióndesuconstrucción.[Figura1][Figura2][Figura3][Figura4])Interiordelostanquesdealmacenamiento。

    所述的磷酸濃度為82-87％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進(jìn)一步地，在使用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行氮化硅層蝕刻時(shí)，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時(shí)間為5-60min。通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，改善了磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，明顯提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕和蝕刻均勻性。為了便于驗(yàn)證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性，本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后，先使用表面張力儀檢測(cè)該蝕刻液的表面張力；然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片，采用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂媒佑|角測(cè)量?jī)x檢測(cè)蝕刻液對(duì)氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前，使用橢圓偏振光譜儀對(duì)氮化硅樣片取不同位置共6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度的測(cè)量。BOE蝕刻液，輕松應(yīng)對(duì)各種復(fù)雜蝕刻需求。

    ósitoyelfondodelfosoolasuperficiedecementodebecolocarseunespesormínimode30centíínimo30centímetrosmásqueloslímitesdeldepóánecesarialainstalacióáánanclarselosdepósitoscuandolasposiblesfuentesdeagua(nivelfreático,aguadelluvia,etc.)áósitosensualojamientosesometeránauncontrol,paracomprobarquenohansufridoda?ánsometidosaunapruebadeestanqueidad,hidráulicaoneumáticaaunapresiónmanométricasuperiora20KPa.(0,2kilogramos/centímetrocuadrado)ynosuperiora34KPa.(0,35kilogramos/centímetrocuadrado),óósitosdedobleparedaquellosdepósitosconstruidoscondosparedesyconfondosdobles,separadosunodeotroporunmaterialintermedioelcualcreaunespacioconintersticiosquepermiteladeteccióósitosdeberánirprovistosdesistemaspermanenteseinherentesalosmismos,dealarmaydeteccióón,instalación,pruebaenellugardeemplazamiento,enterramientoyprotecciónseajustaránacóáóneléctricanecesariaparaelsistemadealarmaydeteccióndefugas,deberáestarprotegida。維信諾用的哪家的BOE蝕刻液？湖北BOE蝕刻液主要作用

如何挑選一款適合公司的BOE蝕刻液？一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來(lái)越小，集成度越來(lái)越高，對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高，如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí)，晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí)，檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問(wèn)題，通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。一種BOE蝕刻液聯(lián)系方式