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企業(yè)商機
剝離液基本參數(shù)
  • 品牌
  • 博洋化學(xué)
  • 純度級別
  • 超純/高純
  • 類型
  • 醇,醚
  • 產(chǎn)品性狀
  • 液態(tài)
剝離液企業(yè)商機

    本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,請參閱圖5,圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖,該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則可以關(guān)閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。在上述實施例中,對各個實施例的描述都各有側(cè)重,某個實施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實施例的相關(guān)描述。 使用剝離液的方式有哪些;安徽銀蝕刻液剝離液哪里買

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    本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù):光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等,其作用是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機電系統(tǒng)(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,離子注入層光刻膠(參考圖2)在經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后(參考圖3),會在光刻膠的外層形成一層硬殼(參考圖4)本發(fā)明命名為主要光刻膠層?,F(xiàn)有的離子注入層光刻膠在經(jīng)過氧氣灰化干法剝離時,由于等離子氧與光刻膠反應(yīng)速率很高,會有一部分等離子氧先穿透主要光刻膠層到達第二光刻膠層,在與第二光刻膠層反應(yīng)后在內(nèi)部產(chǎn)生大量氣體,第二層光刻膠膨脹(參考圖5),主要光刻膠層終因承受不住內(nèi)層巨大的氣壓而爆裂,爆裂的光刻膠有一定的概率掉落在臨近的光刻膠上(參考圖6),導(dǎo)致此交疊的光刻膠不能法剝離干凈。在經(jīng)過后續(xù)批作業(yè)的濕法剝離后會產(chǎn)生殘余物。上海市面上哪家剝離液私人定做鋁剝離液的配方是什么?

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   濕電子化學(xué)品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領(lǐng)域。濕電子化學(xué)品上游是基 礎(chǔ)化工產(chǎn)品,下游是電子信息產(chǎn)業(yè)(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、 LED、平板顯示、太陽能電池、**等領(lǐng)域)。濕電子化學(xué)品的生產(chǎn)工藝主要采用物 理的提純技術(shù)及混配技術(shù),將工業(yè)級的化工原料提純?yōu)槌瑑舾呒兓瘜W(xué)試劑,并按照 特定的配方混配為具有特定功能性的化學(xué)試劑。濕電子化學(xué)品行業(yè)是精細化工和電 子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域,其行業(yè)特色充分融入了兩大行業(yè)的自身特點,具有品種多、 質(zhì)量要求高、對環(huán)境潔凈度要求苛刻、產(chǎn)品更新?lián)Q代快、產(chǎn)品附加值高、資金投入 量大等特點,是化工領(lǐng)域相當(dāng)有發(fā)展前景的領(lǐng)域之一。

    所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種。技術(shù)方案中,所述的環(huán)胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種。技術(shù)方案中,所述的緩蝕劑為三唑類物質(zhì)。的技術(shù)方案中,所述的緩蝕劑為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。技術(shù)方案中,所述的潤濕劑含有羥基。技術(shù)方案中,所述的潤濕劑為聚乙二醇、甘油中的任意一種。經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:本發(fā)明中加入環(huán)胺與鏈胺,能夠滲透、斷開光刻膠分子間弱結(jié)合力,能夠快速、有效地溶解光刻膠,而配方中加入潤濕劑,能夠有效地減少接觸角,增強親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。附圖說明:圖1為配方一和配方二的剝離液滴落在平面時兩者的接觸角對比圖。圖2為配方一和配方二的剝離液應(yīng)用是光刻膠的殘留量對比圖。具體實施方式現(xiàn)有技術(shù)中的剝離液其水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留,本申請經(jīng)過大量的試驗,創(chuàng)造性的發(fā)現(xiàn),在剝離液中加入潤濕劑,能夠使固體物料(高世代面板)更易被水浸濕的物質(zhì),通過降低其表面張力或界面張力,使水能展開在固體物料。國內(nèi)那里可以買到效果好的剝離液;

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能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定,例如,可以舉出在設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說明的是,浸漬時,可以搖動基材,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波??刮g劑的種類沒有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒有特別限定。剝離液的正確使用方式;東莞ITO蝕刻液剝離液銷售廠

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    所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,所述道包括多個子管道,每一所述子管道與一子過濾器連通,且所述多個子管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連通。在一些實施例中,所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道,每一所述第二子管道與一子過濾器連通,每一所述第二子管道與所述公共子管道連通,所述公共子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述子管道及每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述第二管道包括多個第三子管道,每一所述第三子管道與一子過濾器連通,且每一所述第三子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第三子管道上。本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,包括:將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室。安徽銀蝕刻液剝離液哪里買

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