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企業(yè)商機(jī)
XRD衍射儀基本參數(shù)
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  • 布魯克
  • 型號(hào)
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XRD衍射儀企業(yè)商機(jī)

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試,X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡(jiǎn)單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個(gè)樣品的體積,衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜。配備了UMC樣品臺(tái)的DISCOVER,優(yōu)勢(shì)在于對(duì)大型機(jī)械零件殘余應(yīng)力和織構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

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藥物制劑生產(chǎn)過程中除需添加各種輔料外,往往還需要經(jīng)過溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過程,在此過程中API的晶型有可能發(fā)生改變,進(jìn)而可能影響到藥物的療效。國內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制、生產(chǎn)、貯存過程中必須保證其晶型的一致性,固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應(yīng)該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對(duì)藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾,特別是API含量非常少的制劑樣品,檢測(cè)更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一,配合高性能的先進(jìn)檢測(cè)器,為制劑中微量API的晶型檢測(cè)提供了有利工具。江西物相定量分析XRD衍射儀D8D對(duì)地質(zhì)構(gòu)造研究,借助μXRD,哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定都不在話下。

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石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。

對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品,通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量。通過消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力,可延長其功能壽命。這可通過熱處理或噴丸處理等物理工藝來完成。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向,決定了裂紋的生長方式。而通過在材料中形成特定的織構(gòu),可顯著增強(qiáng)其特性。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法(例如增材制造)領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同不,然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。

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D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無耗水、使用壽命延長3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源,用于產(chǎn)生X射線。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽極可為線焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件,可高效捕獲X射線,并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。D8測(cè)角儀巨有市場(chǎng)超前地精確度,為布魯克獨(dú)有的準(zhǔn)直保證奠定了基礎(chǔ)。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

涉及高通量篩選(HTS)和大區(qū)域掃描分析時(shí),D8 DISCOVER是較好解決方案。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

基于的D8衍射儀系列平臺(tái)的D8ADVANCE,是所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用的理想之選,如:典型的X射線粉末衍射(XRD)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

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江蘇XRD衍射儀配件 2025-06-18

X射線粉末衍射(XRPD)技術(shù)是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息,直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,您將能簡(jiǎn)單地實(shí)施常見的XRPD方法:鑒別晶相和非晶相,并測(cè)定樣品純度對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析(微晶尺寸、微應(yīng)變、無序…)熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行晶片分析:分析晶片的層厚度和外延層濃度...

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