由于具有出色的適應(yīng)能力,*使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克***提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。無論面對(duì)何種應(yīng)用,DIFFRAC.DAVINCI都會(huì)指引用戶選擇較好的儀器配置。x射線
淀粉結(jié)晶度測(cè)定引言淀粉結(jié)晶度是表征淀粉顆粒結(jié)晶性質(zhì)的一個(gè)重要參數(shù),也是表征淀粉材料類產(chǎn)品性質(zhì)的重要參數(shù),其大小直接影響著淀粉產(chǎn)品的應(yīng)用性能、淀粉材料的物理和機(jī)械性能。X射線衍射法(XRD)加全譜擬合法測(cè)定淀粉顆粒結(jié)晶度常用的方法之一。結(jié)晶度對(duì)于含有非晶態(tài)的聚合物,其散射信號(hào)來源于兩部分:晶態(tài)的衍射峰和非晶態(tài)漫散峰。那么結(jié)晶度DOC則定義為晶態(tài)衍射峰面積與總散射信號(hào)面積的比值。采用了開放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致,這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)深圳購(gòu)買XRD衍射儀配件D8 DISCOVER 特點(diǎn):UMC樣品臺(tái)可對(duì)重達(dá)5 kg的樣品進(jìn)行掃描、大區(qū)域映射300mm的樣品、高通量篩選支持三個(gè)孔板。
RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試,X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡(jiǎn)單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個(gè)樣品的體積,衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜。
X射線反射率測(cè)定引言X射線反射率(XRR:X-RayReflectivity)是一種表面表征技術(shù),是利用X射線在不同物質(zhì)表面或界面的反射線之間的干涉現(xiàn)象分析薄膜或多層膜結(jié)構(gòu)的工具。通過分析XRR圖譜(圖1)可以確定各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)。XRR的特點(diǎn):1無損檢測(cè)2對(duì)樣品的結(jié)晶狀態(tài)沒有要求,不論是單晶膜、多晶膜還是非晶膜均可以進(jìn)行測(cè)試3XRR適用于納米薄膜,要求厚度小于500nm4晶面膜,表面粗糙度一般不超過5nm5多層膜之間要求有密度差從過程開發(fā)到質(zhì)量控制,D8 DISCOVER可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。
D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源IμS配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源,用于產(chǎn)生X射線。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線源(IμS)可提高極小焦斑面積上的X射線通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件,可高效捕獲X射線,并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。這種X射線源可提供高亮度光束,對(duì)mm大小的樣品研究,或使用μm大小光束進(jìn)行微區(qū)X射線衍射研究的理想選擇。BRUKERXRD衍射儀檢測(cè)
涉及高通量篩選(HTS)和大區(qū)域掃描分析時(shí),D8 DISCOVER是較好解決方案。x射線
BRAGG2D——監(jiān)控樣品制備的質(zhì)量樣品制備過程中的系統(tǒng)誤差,是分析誤差的重要來源。使用BraggBrentano幾何的2D衍射圖像,將樣品制備問題可視化,如粒徑或擇優(yōu)取向。避免就統(tǒng)計(jì)而言沒有代表性的測(cè)量結(jié)果。運(yùn)營(yíng)成本低不消耗水硅條帶探測(cè)器技術(shù),無需使用探測(cè)器氣體近乎無限的光管使用壽命可重復(fù)使用的樣品支持器低功耗(650W)布魯克與水泥業(yè)密切合作,不斷改進(jìn)其分析解決方案。在D2PHASER方面,我們針對(duì)水泥業(yè)提供了一個(gè)軟件包,其中包括針對(duì)10多種原材料、熟料和不同水泥類型制定的、供工廠應(yīng)用的測(cè)量和數(shù)據(jù)評(píng)估方法,可有效控制窯爐以及工廠的礦物學(xué)。與水泥軟件包相結(jié)合的D2PHASER非常適合小規(guī)模運(yùn)營(yíng)。對(duì)于每天需要測(cè)量大量樣品的大型工廠,請(qǐng)參見D8ENDEAVOR。x射線
X射線粉末衍射(XRPD)技術(shù)是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息,直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,您將能簡(jiǎn)單地實(shí)施常見的XRPD方法:鑒別晶相和非晶相,并測(cè)定樣品純度對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析(微晶尺寸、微應(yīng)變、無序…)熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行晶片分析:分析晶片的層厚度和外延層濃度...