原理：在壓力作用下，讓水通過半透膜，半透膜只允許水分子通過，而熱源物質(zhì)（通常是大分子或帶電粒子）由于其尺寸較大或電荷性質(zhì)等原因被阻擋在膜的一側(cè)。這樣，透過半透膜的水的熱源含量就會(huì)降低。反滲透膜的孔徑一般在 0.0001 - 0.001μm 之間，能夠有效截留細(xì)菌、內(nèi)素等熱源物質(zhì)。 操作要點(diǎn)：選擇合適的反滲透膜很關(guān)鍵，不同的反滲透膜對于不同類型和大小的熱源物質(zhì)截留效果不同。在使用過程中，要注意控制進(jìn)水壓力，一般進(jìn)水壓力在 1 - 10MPa 之間，壓力過高可能損壞反滲透膜，壓力過低則會(huì)影響水的透過效率。同時(shí)，要定期對反滲透膜進(jìn)行清洗，因?yàn)樵谑褂眠^程中，水中的雜質(zhì)可能會(huì)吸附或沉積在膜表面，降低膜的性能。清洗可以采用化學(xué)清洗劑，如檸檬酸用于去除金屬氧化物沉淀，氫氧化鈉用于去除有機(jī)物和微生物等。利用反滲透輔助離子交換可提升去離子水的制備效率與純度。復(fù)配型去離子水溶劑

鱟試劑復(fù)溶 用無熱原的水按照鱟試劑說明書規(guī)定的體積準(zhǔn)確復(fù)溶鱟試劑。一般是將鱟試劑小瓶輕輕振搖，使內(nèi)容物充分溶解，復(fù)溶過程要小心操作，避免產(chǎn)生過多氣泡，因?yàn)闅馀菘赡軙?huì)干擾后續(xù)的凝膠觀察。 樣品混合與孵育 取適量的純化水樣品（如 0.1 - 0.2mL）與復(fù)溶后的鱟試劑（如 0.1 - 0.2mL）混合在小試管中。使用移液器時(shí)要確保移液準(zhǔn)確，并且將樣品和試劑充分混勻，輕輕顛倒試管幾次即可。 將混合后的試管放入預(yù)先設(shè)定為 37℃的恒溫箱中進(jìn)行孵育。孵育時(shí)間一般為 60 - 90 分鐘，孵育過程中要保持恒溫箱內(nèi)溫度穩(wěn)定，避免頻繁開門導(dǎo)致溫度波動(dòng)影響凝膠形成。陜西去離子水發(fā)展去離子水在制藥行業(yè)的水針劑生產(chǎn)中，保障藥品質(zhì)量與安全。

去離子水和蒸餾水主要有以下區(qū)別，用途方面。蒸餾水 在醫(yī)療領(lǐng)域，蒸餾水可用于一些醫(yī)療器械的清洗，如一些簡單的手術(shù)器械的初步?jīng)_洗，因?yàn)樗梢匀コ蟛糠值碾s質(zhì)，減少對器械的污染。 在化學(xué)實(shí)驗(yàn)中，對于一些對離子含量要求不是特別高，但需要無固體雜質(zhì)的實(shí)驗(yàn)，蒸餾水也可以作為溶劑使用。例如，在一些定性的化學(xué)實(shí)驗(yàn)中，蒸餾水可以用來溶解一些固體試劑進(jìn)行反應(yīng)觀察。 去離子水 在電子工業(yè)中，如半導(dǎo)體制造、電路板的清洗等，去離子水是必不可少的。因?yàn)殡娮釉λ械碾x子雜質(zhì)非常敏感，哪怕是微量的離子都可能導(dǎo)致元件性能下降或損壞。 在制藥行業(yè)，對于一些高精度的藥品生產(chǎn)，如注射劑的配制，去離子水的使用可以確保藥品的質(zhì)量和安全性，防止因水中離子引起的藥物不良反應(yīng)。

TOC 的測量方法 燃燒氧化 - 非色散紅外吸收法（NDIR） 原理：將水樣注入高溫燃燒爐（通常溫度在 680 - 950℃之間），水中的有機(jī)碳在高溫和催化劑（如鉑、二氧化鈷等）的作用下被完全氧化為二氧化碳。然后，通過非色散紅外吸收分析儀來檢測生成的二氧化碳的量，從而根據(jù)碳的守恒定律計(jì)算出水中 TOC 的含量。因?yàn)槎趸荚谔囟úㄩL（一般為 4.26μm 左右）的紅外光區(qū)域有強(qiáng)烈的吸收，通過檢測紅外光的吸收程度就能確定二氧化碳的量。 操作要點(diǎn)：在測量前，需要對儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，通常使用已知 TOC 濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液（如鄰苯二甲酸氫鉀溶液）來校準(zhǔn)儀器的靈敏度和準(zhǔn)確性。水樣的注入量要準(zhǔn)確控制，因?yàn)檫@會(huì)直接影響測量結(jié)果。同時(shí)，要確保燃燒爐的溫度和催化劑的活性處于良好狀態(tài)，以保證有機(jī)碳的完全氧化。 紫外線氧化 - 非色散紅外吸收法 原理：利用紫外線（UV）的能量使水中的有機(jī)碳發(fā)生氧化反應(yīng)。在紫外線的照射下，水中的有機(jī)碳被氧化為二氧化碳，然后再用非色散紅外吸收分析儀檢測二氧化碳的量來計(jì)算 TOC。這種方法相對溫和，對于一些對溫度敏感的水樣或者含有易揮發(fā)有機(jī)物質(zhì)的水樣比較適用。去離子水中的陰離子和陽離子濃度均處于極低范圍。

制藥行業(yè) 在制藥行業(yè)，對于注射用水和純化水，TOC 含量要求極為嚴(yán)格。因?yàn)橛袡C(jī)碳雜質(zhì)可能會(huì)影響藥品質(zhì)量和安全性。例如，在注射劑的生產(chǎn)中，水中過高的 TOC 含量可能會(huì)與藥物成分發(fā)生反應(yīng)，或者作為微生物生長的營養(yǎng)源，引發(fā)藥品污染。所以，制藥行業(yè)通常要求注射用水的 TOC 含量不超過 500μg/L，純化水的 TOC 含量不超過 5mg/L。這些嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)是為了確保藥品的純度和穩(wěn)定性，符合藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范（GMP）的要求。 電子工業(yè)（半導(dǎo)體制造等） 半導(dǎo)體制造過程對純度要求極高，水是半導(dǎo)體制造過程中清洗和蝕刻等步驟的關(guān)鍵材料。即使微量的有機(jī)碳雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片缺陷。例如，在光刻過程中，水中的有機(jī)碳可能會(huì)吸附在硅片表面，影響光刻精度。因此，電子工業(yè)中使用的超純水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L，以滿足高精度芯片制造的需要。其在光學(xué)鏡片鍍膜工藝中，可保證鍍膜的均勻性與附著力。復(fù)配型去離子水溶劑

在制藥行業(yè)的藥膏生產(chǎn)中，去離子水可改善藥膏的質(zhì)地與均勻性。復(fù)配型去離子水溶劑

高溫法 原理：基于熱源物質(zhì)的耐熱性特點(diǎn)，通過高溫加熱使熱源物質(zhì)的結(jié)構(gòu)發(fā)生改變或分解，從而失去致熱活性。一般情況下，需要在較高的溫度和較長的時(shí)間條件下才能有效破壞熱源. 操作要點(diǎn)：對于液體水，通常采用高溫蒸汽滅菌等方式，但要注意在加熱過程中防止水的大量蒸發(fā)和容器的耐壓問題。對于固體物質(zhì)或設(shè)備表面的熱源去除，可以采用干熱滅菌等方法，但要確保加熱溫度和時(shí)間能夠達(dá)到徹底破壞熱源的要求。 酸堿處理法 原理：利用強(qiáng)酸或強(qiáng)堿溶液與熱源物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，改變其化學(xué)結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，使其失去致熱活性。例如，強(qiáng)堿可以使熱源物質(zhì)中的脂多糖等成分發(fā)生水解反應(yīng). 操作要點(diǎn)：在使用酸堿處理時(shí)，要嚴(yán)格控制酸堿的濃度、處理時(shí)間和溫度等參數(shù)。處理后，需要對水進(jìn)行中和處理，使其達(dá)到合適的 pH 值范圍，并且要經(jīng)過充分的清洗或后續(xù)處理，以去除殘留的酸堿物質(zhì)和反應(yīng)產(chǎn)物。復(fù)配型去離子水溶劑