研磨液中的化學(xué)成分與硅片表面材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，將不溶的物質(zhì)轉(zhuǎn)化為易溶物質(zhì)，或者將硬度高的物質(zhì)進(jìn)行軟化，然后通過(guò)磨粒的微機(jī)械摩擦作用將這些化學(xué)反應(yīng)物從硅片表面去除，溶入流動(dòng)的液體中帶走，即在化學(xué)去膜和機(jī)械去膜的交替過(guò)程中實(shí)現(xiàn)平坦化的目的。其反應(yīng)分為兩個(gè)過(guò)程：化學(xué)過(guò)程：研磨液中的化學(xué)品和硅片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成比較容易去除的物質(zhì)；物理過(guò)程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料發(fā)生機(jī)械物理摩擦，去除化學(xué)反應(yīng)生成的物質(zhì)。馳光機(jī)電科技有限公司受行業(yè)客戶的好評(píng)，值得信賴。陜西二氧化鈦粒度分析儀

提供數(shù)量、面積和體積等指標(biāo)的平率分布圖和表、累計(jì)分布圖和表格粒度和粒型參數(shù)分布的結(jié)果；能夠自動(dòng)產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)結(jié)果world報(bào)告。激光和視頻分析產(chǎn)生的信息，很容易通過(guò)直觀的數(shù)據(jù)報(bào)表軟件得到。測(cè)量結(jié)果可以各種表格和圖顯示出來(lái)，這些表格和圖可以由用戶選擇，以便正確顯示需要的信息。通過(guò)數(shù)據(jù)挖掘技術(shù)，很容易實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)比較和分析，允許對(duì)覆蓋圖和比較表進(jìn)行編輯。輕點(diǎn)一下鼠標(biāo)，就能生成Word格式的樣品分析報(bào)告，該文件包括樣品制備、粒徑和粒形結(jié)果，還帶有圖像或視頻信息。廣東高精度納米粒度分析儀廠家馳光機(jī)電科技有限公司設(shè)備的引進(jìn)更加豐富了公司的設(shè)備品種，為用戶提供了更多的選擇空間。

測(cè)量低密度顆粒：示差沉降法過(guò)去一般用于測(cè)量密度大于分散介質(zhì)液體密度的顆粒，CPS開(kāi)發(fā)了一項(xiàng)新的技術(shù)技術(shù)(US Patent5,786,898)。很多用常規(guī)示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質(zhì)體)，現(xiàn)在可以方便地使用CPS進(jìn)行分析，而且精度很高。速度調(diào)節(jié)：CPS開(kāi)發(fā)了一種特殊的圓盤設(shè)計(jì)使得在分析過(guò)程中可以調(diào)節(jié)圓盤的轉(zhuǎn)速，而不會(huì)對(duì)沉降液體產(chǎn)生擾動(dòng)，轉(zhuǎn)速可以在20倍范圍內(nèi)升高或者降低，這樣一來(lái)就使得分析的動(dòng)態(tài)范圍幾乎增大了20倍。

儀器的主要參數(shù)為：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準(zhǔn)直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測(cè)的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測(cè)器上的任一點(diǎn)都對(duì)應(yīng)于某一確定的散射角。馳光機(jī)電科技以精良的產(chǎn)品品質(zhì)和優(yōu)先的售后服務(wù)，全過(guò)程滿足客戶的需求。

CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分，其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題！馳光機(jī)電一切從實(shí)際出發(fā)、注重實(shí)質(zhì)內(nèi)容。江西納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

馳光機(jī)電科技提供周到的解決方案，滿足客戶不同的服務(wù)需要。陜西二氧化鈦粒度分析儀

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：CPS系統(tǒng)優(yōu)良性能的基礎(chǔ)是它先進(jìn)的示差沉降技術(shù)。高轉(zhuǎn)速：CPS可以支持的較高轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。對(duì)于超細(xì)顆粒，其分析速度比其它產(chǎn)品快倍。使用速度調(diào)節(jié)技術(shù)，可以對(duì)粒度分布范圍較廣的樣品進(jìn)行分析。對(duì)于在其它分析儀上很多非常耗時(shí)(數(shù)小時(shí)或更長(zhǎng))的樣品，CPS可以快速得到結(jié)果。高精度標(biāo)定：CPS系統(tǒng)使用已知的標(biāo)定顆粒進(jìn)行標(biāo)定，與美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院(NIST)相兼容的標(biāo)準(zhǔn)保證了分析結(jié)果的一致性和精確度。使用內(nèi)標(biāo)法，也即把已知標(biāo)定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結(jié)果可以達(dá)到±0.25%的精度。陜西二氧化鈦粒度分析儀