因此，需要對其粒徑的分布進行測試。而目前對炭黑的粒徑測量方法為差速沉淀法。由于常用的炭黑粒徑比較均勻，在測試時粒徑的分布常呈現(xiàn)正態(tài)曲線分布，但在裂解后炭黑中混有橡膠纖維，導(dǎo)致粒徑變大，不同粒徑炭黑的含量不同，不再呈現(xiàn)均勻的正態(tài)分布。造成樣品的測試比較困難。美國CPS24000納米粒度分析儀可以真實反映樣品在溶液中的真實粒徑分布狀態(tài)，粒徑測試結(jié)果的精確度只次于掃描電鏡。主要特點如下：所需樣品量少，每次只需要0.1ml，這在疫苗研發(fā)、化學(xué)合成方面具有較大的優(yōu)勢。歡迎各界朋友蒞臨參觀。西藏CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

儀器的主要參數(shù)為：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測器上的任一點都對應(yīng)于某一確定的散射角。四川高精度納米粒度分析儀報價馳光機電科技有限公司始終以適應(yīng)和促進發(fā)展為宗旨。

符合多項油品S元素分析國際和國家標準，例如ASTM D4294，ASTM D7212，GB/T 17040，GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W，使用壽命長達數(shù)十年。低背景硅“漂移”檢測器保證高分辨率，檢測限高達0.1ppm。除了標配的Windows操作系統(tǒng)，還提供了備選的Linux操作系統(tǒng)，保證儀器的安全性（中美貿(mào)易戰(zhàn)下的新形勢要求）。中國PTA行業(yè)競爭格局分析，從我國PTA產(chǎn)能分布來看，產(chǎn)能占比較大的廠家是恒力石化，2020年占比20%；產(chǎn)能占比排第二的是逸盛大化，產(chǎn)能占比為10%，其次是逸盛石化，產(chǎn)能占比9%；國內(nèi)前面十PTA廠家產(chǎn)能合計占比77%。全球PTA計劃投產(chǎn)產(chǎn)能趨勢。

氧化鋅可以應(yīng)用于病毒載體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設(shè)備在有關(guān)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量等重要問題上有重要的參考價值。CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況。CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結(jié)果，儀器使用轉(zhuǎn)速為24,000轉(zhuǎn)/分。可以明顯看到病毒顆粒是否發(fā)生團聚現(xiàn)象，儀器分辨率很好。CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況。馳光機電科技有限公司不懈追求產(chǎn)品質(zhì)量，精益求精不斷升級。

CMP(化學(xué)機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關(guān)重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電科技嚴格控制原材料的選取與生產(chǎn)工藝的每個環(huán)節(jié)，保證產(chǎn)品質(zhì)量不出問題。甘肅激光粒度分析儀報價

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磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。西藏CPS高精度納米粒度分析儀哪家好