提供數(shù)量、面積和體積等指標的平率分布圖和表、累計分布圖和表格粒度和粒型參數(shù)分布的結果；能夠自動產生實驗結果world報告。激光和視頻分析產生的信息，很容易通過直觀的數(shù)據報表軟件得到。測量結果可以各種表格和圖顯示出來，這些表格和圖可以由用戶選擇，以便正確顯示需要的信息。通過數(shù)據挖掘技術，很容易實現(xiàn)數(shù)據比較和分析，允許對覆蓋圖和比較表進行編輯。輕點一下鼠標，就能生成Word格式的樣品分析報告，該文件包括樣品制備、粒徑和粒形結果，還帶有圖像或視頻信息。馳光銳意進取，持續(xù)創(chuàng)新為各行各業(yè)提供專業(yè)化服務。寧夏納米粒度分析儀價格

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、OLED(有機電激發(fā)光二極管)、有機薄膜太陽能電池材料、電極材料、電化學生物傳感器等。PEDOT及其復合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撐二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根陰離子的化學聚合物)的粒度大小和粒度分布與其導電性能相關。CPS納米粒度分析儀可以提供確切穩(wěn)定的測量分析，有助于終產品導電性能的評價。CPS納米粒度分析儀測定PEDOT/PSS得到的結果，粒徑為0.022微米(儀器使用轉速為24,000轉/分鐘)。陜西高靈敏度納米粒度分析儀廠家馳光機電科技敢于承擔、克難攻堅。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！

C-Quand在線EDXRF分析儀在PTA工藝中的應用，產品綜述：精對苯二甲酸，英文名簡稱為PTA，它是聚酯生產鏈的重要組成部分，是中國重要的化工原料。PTA可用于生產聚酯，合成纖維和增塑劑等，它們大量用于工業(yè)塑料，薄膜，涂料和其他領域。作為紡織化纖和石油化工兩大行業(yè)的重要中間體，PTA起著重要的承上啟下作用。測量的必要性：通過添加醋酸鈷和醋酸錳以及四溴乙烷催化劑，對二甲苯氧化可以制取苯二甲酸（TA）。如果能夠對催化劑元素含量（鈷、錳和溴Br）進行連續(xù)在線分析，可以更好地控制工藝馳光機電深受各界客戶好評及厚愛。

研磨液中的化學成分與硅片表面材料產生化學反應，將不溶的物質轉化為易溶物質，或者將硬度高的物質進行軟化，然后通過磨粒的微機械摩擦作用將這些化學反應物從硅片表面去除，溶入流動的液體中帶走，即在化學去膜和機械去膜的交替過程中實現(xiàn)平坦化的目的。其反應分為兩個過程：化學過程：研磨液中的化學品和硅片表面發(fā)生化學反應，生成比較容易去除的物質；物理過程：研磨液中的磨粒和硅片表面材料發(fā)生機械物理摩擦，去除化學反應生成的物質。馳光機電過硬的產品質量、完善的售后服務、認真嚴格的企業(yè)管理，贏得客戶的信譽。寧夏納米粒度分析儀價格

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儀器的主要參數(shù)為：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。激光粒度儀根據光學衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經顯微物鏡聚集，濾波和準直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經傅立葉透鏡后，照射到光電探測器上的任一點都對應于某一確定的散射角。寧夏納米粒度分析儀價格