儀器的主要參數(shù)為：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測器上的任一點都對應于某一確定的散射角。馳光機電科技有限公司以誠信為根本，以質量服務求生存。山西高精度納米粒度分析儀

CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測量結果，有效控制產品的質量。應用實例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩(wěn)定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應用，從油漆到食用色素到化妝品和護膚品，因此二氧化鈦的粒徑測量十分重要。例如納米二氧化鈦顆?？梢杂糜诜罆袢橐海驗樗鼈兩⑸涞目梢姽獗扔糜谄胀ㄍ苛匣蛘哳伭现械亩趸侇w粒小，同時還能提供紫外線保護。云南激光粒度粒形分析儀馳光機電科技有限公司在客戶和行業(yè)中樹立了良好的企業(yè)形象。

CMP漿料粒度分析的難點在于必須在拋光過程中全濃度條件下快速測定平均顆粒直徑和粒度分布，因為稀釋可能導致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進一步的團聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測本來就較少量的團聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來。適用于稀到高濃度的樣品粒度測定，對團聚體的存在非常敏感。

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性、對可見光具有高透過率等特點，大量用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業(yè)，用來制作抗靜電涂層、OLED(有機電激發(fā)光二極管)、有機薄膜太陽能電池材料、電極材料、電化學生物傳感器等。PEDOT及其復合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撐二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根陰離子的化學聚合物)的粒度大小和粒度分布與其導電性能相關。CPS納米粒度分析儀可以提供確切穩(wěn)定的測量分析，有助于終產品導電性能的評價。CPS納米粒度分析儀測定PEDOT/PSS得到的結果，粒徑為0.022微米(儀器使用轉速為24,000轉/分鐘)。馳光機電科技有限公司重信譽、守合同，嚴把產品質量關，熱誠歡迎廣大用戶前來咨詢考察，洽談業(yè)務！

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產生。馳光機電科技歡迎朋友們指導和業(yè)務洽談。天津粒度分析儀報價

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據(jù)統(tǒng)計，2021年我國PTA將迎來投產前端期，基本都是行業(yè)前端企業(yè)配套上下游的規(guī)劃項目，其中恒力石化2021年在廣東惠州設計產能達到500萬噸，預計2021年我國PTA計劃投產PTA產能1650萬噸（保底1160萬噸），預計2022年我國PTA計劃投產PTA產能570萬噸。CPS高精度納米粒度分析儀CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度快、分辨率較高以及靈敏度較好的離心沉降式納米粒度分析儀，它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒。山西高精度納米粒度分析儀