CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題！馳光機電以顧客為本，誠信服務為經(jīng)營理念。廣東病毒顆粒分析儀廠家

儀器的主要參數(shù)為：測量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標準分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴展、變速圓盤；自動密度梯度液生成器（型號AG300）；自動進樣器（型號AS200）；標定用標準顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測器上的任一點都對應于某一確定的散射角。寧夏二氧化鈦粒度分析儀價格誠摯的歡迎業(yè)界新朋老友走進馳光機電科技！

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況，峰值清晰可見，為疫苗的研發(fā)生產(chǎn)提供全新的解決方案。應用范圍：CPS納米粒度分析儀可測量粒度分布在5nm-75微米之間的超細粉，大量應用于以下領域。化工：聚合物乳膠和乳液，助劑及添加劑(納米碳酸鈣CaCO，重晶石3CaSO)，白炭黑SiO2，金剛石、磨料、陶瓷、碳化硅、氮化硅等，抗沖擊增強顆粒。制藥/生物：納米金和納米銀，病毒和類病毒顆粒，細胞和細胞碎片，蛋白質，脂質體。

印刷和涂料，涂料：水基和油基涂料，微纖維涂料粘度改性劑，打印機/復印件墨粉，噴墨打印機墨水，炭黑，磁性材料。半導體：微磨料，CMP化學機械拋光。其他：納米微球，淀粉/面粉顆粒，顆粒團聚模式分析，標準顆粒。CPS納米粒度分析儀的操作軟件集數(shù)據(jù)于一體，主要包括以下特性：后臺數(shù)據(jù)采集，允許測量時瀏覽數(shù)據(jù)；重量，表面積，數(shù)量和吸收分布圖；可以在同一張圖表上顯示20個不同的分布結果；可定制的分布統(tǒng)計輸出結果；完整的粒度分布統(tǒng)計。山東馳光機電科技有限公司深受行業(yè)客戶的好評，值得信賴。

標定CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內(nèi)，而且顆粒的團聚性也符合要求?？蛇x標定顆粒：直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態(tài)，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態(tài)。每一套標定顆粒都有其粒度分析結果和分析證書。應用實例：PEDOT及其復合材料的粒徑測量PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環(huán)境穩(wěn)定性。馳光機電科技創(chuàng)新發(fā)展，努力拼搏。寧夏二氧化鈦粒度分析儀價格

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主要特點如下：1.所需樣品量少。每次只需要0.1ml，這在疫苗研發(fā)、化學合成方面具有較大的優(yōu)勢。2.一次測試可到40多個樣品。在前處理準備工作做完以后，可結合標準顆粒一批次測試40多個樣品。3.分辨率高。同激光散射和顆粒計數(shù)等方法比較，對于樣品中即使只有1%峰值差異的顆粒，依舊可以很好地區(qū)分測量出來，即可以得到真實的粒度分布結果。4.靈敏度高。低至 10-8g的樣品就可以滿足日常分析需要。5.分析時間短。和傳統(tǒng)沉降法比較，由于采用更快的圓盤轉速和高速檢測器，因此較大縮短了分析所需時間。廣東病毒顆粒分析儀廠家

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