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蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性；同時，它的溶銅量大；酸性蝕刻液也較容易再生與回收，從而減少污染。有研究表明，酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3，以硝酸為基礎(chǔ)的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側(cè)蝕，達(dá)到蝕刻的...

微蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備在使用中不但使微蝕刻工序基本實現(xiàn)污染零排放，并產(chǎn)出純度高、價值高的電解金屬銅。 一、微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。 我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工...

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在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到比較好的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度比較好水平，蝕刻用過后的（以下稱[用后蝕刻液]）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使...