精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技作為精密鼓風烤箱的優(yōu)良原廠廠家,設備都是自主生產銷售,質量可靠,品質保證,歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風烘箱有沒有些許了解呢,下面小編就帶大家走近精密鼓風烘箱,為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的參數(shù)。技術...
連續(xù)爐即是連續(xù)作業(yè)爐,是指連續(xù)地或間歇地裝料,工件在爐內不斷移動,完成加熱、保溫,有時包括冷卻在內全過程的熱處理爐。連續(xù)作業(yè)爐可借助某些機械機構連續(xù)地或間歇地進行裝料和出料,連續(xù)順序地通過按零件處理工藝要求的不同溫度區(qū)完成加熱過程。使用連續(xù)作業(yè)爐可提高產品質量,提高勞動生產率和改善勞動條件。下面為大家介紹一下連續(xù)爐的產品材質和產品特點。一、產品材質1.外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼;2.保護裝置定時報警斷電裝置、超溫斷電、漏電保護斷路器、電機過載保護。二、產品特點1.雙邊配有鏈條傳動,解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象;2.烘箱分段式加熱,單獨電箱控制,方便操作,結構主要由輸送機系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成,多段單獨;3.PID溫度控制,爐內溫度均勻;4.輸送速度變頻調速,調節(jié)自如,運行平穩(wěn),產能高;5.每段單獨箱體設置廢氣排放接口,可外接到車間外面,避免車間廢氣污染。試驗箱的作用是什么?合肥真萍告訴您。生產試驗箱怎么樣
電熱鼓風烤箱適用于各種產品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的技術參數(shù)。產品類型:數(shù)顯微電腦控制電源電壓:AC220V±10%50Hz±2%溫控范圍:室溫+10℃-250℃溫度分辨率:0.1℃溫度波動率:≤±0.5℃溫度均勻度:≤±2℃輸入功率:500W內膽尺寸(mm):W300×D300×H270外形尺寸(mm):W580×D480×H440載物托架:2塊定時范圍:0-9999分鐘。做試驗箱報價表試驗箱可以去哪里購買?
在制冷方面,壓縮機是采用德國進口的壓縮機。制冷系統(tǒng)由高溫部分和低溫部分組成,每一部分是一個相對的制冷系統(tǒng)。高溫部分中制冷劑的蒸發(fā)吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化;低溫部分制冷劑的蒸發(fā)則從被冷卻的對象(試驗機內的空氣)吸熱以獲取冷量。高溫部分和低溫部分之間是用一個蒸發(fā)冷凝器聯(lián)系起來,它既是高溫部分的冷凝器,也是低溫部分的冷凝器。加熱系統(tǒng)采用完全的鎳鉻合金電加熱式,電阻率大、電阻溫度系數(shù)小,在高溫下變形小且不易脆化,自身加熱溫度可達1000~1500℃。
電熱鼓風烤箱適用于各種產品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的技術參數(shù)。產品類型:數(shù)顯微電腦控制電源電壓:AC220V±10%50Hz±2%溫控范圍:室溫+10℃-250℃溫度分辨率:0.1℃溫度波動率:≤±0.5℃溫度均勻度:≤±2℃輸入功率:500W內膽尺寸(mm):W300×D300×H270外形尺寸(mm):W580×D480×H440載物托架:2塊定時范圍:0-9999分鐘試驗箱如何發(fā)揮重要作用呢?
下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。一、產品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。二、設計特點1.后門設計熱風電機2.降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的。試驗箱的生產廠家名錄。重慶高低溫快速試驗箱
試驗箱有什么特點?合肥真萍科技告訴您。生產試驗箱怎么樣
本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。生產試驗箱怎么樣
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