真空烘箱是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進(jìn)行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進(jìn)行抽氣抽濕，使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài)，降低水的沸點(diǎn)，加快干燥的速度。下面為大家介紹一下真萍科技真空烘箱的特點(diǎn)。1.長(zhǎng)方體工作室，使有效容積達(dá)到相當(dāng)大，微電腦溫度控制器，精確控溫。2.鋼化、防彈雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體，一目了然。3.箱體閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內(nèi)高真空度4.工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。合肥真萍向您介紹試驗(yàn)箱的好處。高低溫高壓試驗(yàn)箱安裝廠家

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類(lèi)似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個(gè)數(shù)1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度1℃(恒溫平臺(tái))10.爐膛溫度均勻度6℃（恒溫800℃,1h）二、氣氛系統(tǒng)1.爐膛氣氛2路氮?dú)?，流量?jì)量程為2～20L/min；每路流量可調(diào)節(jié)2.排氣系統(tǒng)在爐膛頂部設(shè)置一個(gè)排氣囪，用于廢氣排放，廢氣3.經(jīng)過(guò)水封清洗后進(jìn)入大氣中，減少對(duì)環(huán)境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量：5.高溫狀態(tài)氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態(tài)氧含量≤50ppm+氣源氧含量高低溫交變?cè)囼?yàn)箱的廠家試驗(yàn)箱定制生產(chǎn)，價(jià)格從優(yōu)。

三綜合試驗(yàn)是指綜合溫度、濕度、振動(dòng)三個(gè)環(huán)境應(yīng)力的試驗(yàn)，具有極寬大的溫濕度控制范圍，可滿足用戶的各種需要采用獨(dú)特的平衡調(diào)溫調(diào)濕方式，可獲得安全、精確的溫濕度環(huán)境。同時(shí)可在三綜合試驗(yàn)箱內(nèi)將電振動(dòng)應(yīng)力按規(guī)定的周期施加到試品上，供用戶對(duì)整機(jī)（或部件）、電器、儀器、材料等作溫濕度、振動(dòng)綜合應(yīng)力篩選試驗(yàn)，以便考核試品的適應(yīng)性或?qū)υ嚻返男袨樽鞒鲈u(píng)價(jià)。下面為大家介紹一下真萍科技的溫濕度振動(dòng)三綜合試驗(yàn)箱特點(diǎn)。1.試驗(yàn)室與制冷系統(tǒng)整體組合式結(jié)構(gòu)，緊湊美觀，便于操作制冷壓縮機(jī)組及主要配件均為口。2.進(jìn)口LCD彩色液晶觸摸屏，溫、濕度程序自動(dòng)控制，配有RS232通訊接口3.可根據(jù)用戶要求選配不同制造商不同型號(hào)的振動(dòng)臺(tái)，振動(dòng)臺(tái)接口接口可有多種形式選用，保證冷、熱、汽密封的同時(shí)，振動(dòng)臺(tái)具有良好的力學(xué)傳遞性。4.可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)、制造不同規(guī)格。

下面為大家介紹一下全自動(dòng)HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.機(jī)外殼采用冷扎鋼板噴塑處理，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。2.箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內(nèi)高真空度。3.微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時(shí)間。5.HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)良材料制造，無(wú)發(fā)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。試驗(yàn)箱的廠家哪個(gè)好？合肥真萍科技告訴您。

下面為大家介紹一下石墨盤(pán)真空烤盤(pán)爐的用途和設(shè)計(jì)。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤(pán)爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤(pán)或石英盤(pán)）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1.后門(mén)設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開(kāi)啟，同時(shí)兩端降溫封頭開(kāi)啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的。試驗(yàn)箱的原材料要求是什么？合肥真萍科技告訴您。泉州哪里有試驗(yàn)箱

使用試驗(yàn)箱能給人們帶來(lái)便利嗎？高低溫高壓試驗(yàn)箱安裝廠家

本篇介紹專(zhuān)業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。高低溫高壓試驗(yàn)箱安裝廠家

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