下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設(shè)計(jì)。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1.后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開(kāi)啟，同時(shí)兩端降溫封頭開(kāi)啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的存儲(chǔ)柜可以去哪里購(gòu)買？大型存儲(chǔ)柜推薦廠家

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2.絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；3.加熱元件：石墨加熱棒；4.冷卻方式：氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫；5.控溫穩(wěn)定度：2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；6.爐膛溫度均勻度：5℃（恒溫1500℃）；7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%；8.極限真空:10-3torr級(jí)；9.抽氣速率：空載下，30min達(dá)到10-2torr10.升溫功率：170kW；11.升溫速率：15℃/min（空載）；12.降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高）安徽存儲(chǔ)柜供應(yīng)商家歡迎致電合肥真萍科技咨詢存儲(chǔ)柜相關(guān)知識(shí)。

一種存儲(chǔ)柜，包括：一在其一前部２Ａ上有一窗口２Ｂ的箱體２；一關(guān)閉和打開(kāi)窗口２Ｂ的門３；一鎖住關(guān)閉了的門３的銷柱５；以及一在門鎖住的鎖住位置與門３解鎖的非鎖住位置之間移動(dòng)銷柱５的銷柱移動(dòng)件１０。銷柱５與箱體２配合的前部２Ａ的一寬度Ｌ３比從前壁伸出的一側(cè)壁的一寬度Ｌ５大。存儲(chǔ)柜一種存儲(chǔ)柜，包括：一在其一前部有一窗口的箱體；一關(guān)閉和打開(kāi)窗口的門；至少一個(gè)鎖住關(guān)閉的門的銷柱；以及一個(gè)在門鎖住的鎖住位置和門解鎖的非鎖住位置之間移動(dòng)銷柱的銷柱移動(dòng)件，其特征在于：在其上銷柱與箱體配合的前部的一寬度比從此前部延伸出的一側(cè)壁的一寬度大。

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