真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦倪^濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達(dá)控制無塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)體。3.特殊導(dǎo)流風(fēng)道設(shè)計(jì)，風(fēng)壓平均，可有效提供風(fēng)量，降低噪音。4.電路板控制模塊，提供安全保護(hù)裝置，運(yùn)轉(zhuǎn)異常指示燈及控制干接點(diǎn)輸出。5.無段式風(fēng)量調(diào)速器可任意調(diào)整風(fēng)量大小。6.濾網(wǎng)ULPA，0.12μm，99.9995%以上的過濾效果。7.電力規(guī)格：單相220V50Hz0.95A，輸出功率150W。合肥真萍向您介紹試驗(yàn)箱的好處。高低溫快速試驗(yàn)箱產(chǎn)品區(qū)分鑒別方法

無氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。下面為大家簡單介紹一下無氧干燥箱。1.技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數(shù):2個,上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；2.氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺）；大試驗(yàn)箱聯(lián)系方式合肥真萍科技的試驗(yàn)箱是否耐用？

1.爐膛氣氛：2路空氣，流量計(jì)量程為7～70L/min，每路流量可調(diào)節(jié)；2.排氣系統(tǒng)：在爐膛頂部設(shè)置一個排氣囪，用于廢氣排放。二、傳動系統(tǒng)1.傳動方式：升降式2.傳動類型：電動推桿傳動3.容積：20L三、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)：無2.產(chǎn)品降溫：隨爐降溫四、安全保護(hù)1.升、降、停按鈕：載料臺的升、降、?？刂?.報警指示：超溫、斷偶、過載、超程、偏差等聲光報警3.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min五、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測量:采用B分度熱偶測量2.控制方式：高性能移相調(diào)壓+SCR晶閘管模塊控制2.1當(dāng)測量溫度超過設(shè)定的安全值時，斷加熱，并報警2.2當(dāng)測量溫度超過目標(biāo)溫度達(dá)到限制偏差值時，報警3.控制儀表：采用進(jìn)口智能調(diào)節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫上限報警、熱電偶失效指示等多項(xiàng)報警保護(hù)功能。

下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗(yàn)箱的構(gòu)造特點(diǎn)。在箱體構(gòu)造方面，恒溫恒濕箱是采用數(shù)控機(jī)床加工成型，造型美觀大方、新穎，并采用無反作用把手，操作簡便。工作室采用進(jìn)口鏡面板不銹鋼制作而成，箱體外膽采用A3鋼板噴塑。箱體外與內(nèi)膽之間填充超細(xì)保溫棉，隔溫效果很好，有效的降低試驗(yàn)箱內(nèi)的溫度波動率，再配合抗老化硅橡膠密封條的嚴(yán)實(shí)密封，使箱體無霧氣泄漏現(xiàn)象產(chǎn)生。由于試驗(yàn)箱內(nèi)的環(huán)境惡劣，為觀察清晰試驗(yàn)箱內(nèi)的情況，合肥真萍在觀察窗方面是選用多層鋼化玻璃制作，并且在觀察窗設(shè)置單獨(dú)的照明燈和霧刷，保持良好的觀察視野，隨時監(jiān)控試驗(yàn)情況。當(dāng)然，為采集試驗(yàn)數(shù)據(jù)，箱體專門配置了直徑50mm的測試孔，可連接記錄儀，打印機(jī)和電腦試驗(yàn)箱的優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在哪？

本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。試驗(yàn)箱去哪找？合肥真萍科技告訴您。上海哪里有試驗(yàn)箱

怎樣選擇試驗(yàn)箱呢？合肥真萍科技建材告知您專業(yè)的方法。高低溫快速試驗(yàn)箱產(chǎn)品區(qū)分鑒別方法

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數(shù)1個7.控溫點(diǎn)數(shù)2點(diǎn)8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度6℃（恒溫800℃,1h）二、氣氛系統(tǒng)1.爐膛氣氛2路氮?dú)猓髁坑?jì)量程為2～20L/min；每路流量可調(diào)節(jié)2.排氣系統(tǒng)在爐膛頂部設(shè)置一個排氣囪，用于廢氣排放，廢氣3.經(jīng)過水封清洗后進(jìn)入大氣中，減少對環(huán)境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量：5.高溫狀態(tài)氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態(tài)氧含量≤50ppm+氣源氧含量高低溫快速試驗(yàn)箱產(chǎn)品區(qū)分鑒別方法