下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間：①常壓時：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時：180min（常溫～+260℃）2.降溫時間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗箱承壓方式：采用內承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa。超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。合肥真萍科技的試驗箱怎么樣？實地考察下真萍就知道了。南京生產(chǎn)試驗箱

超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術指標。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度：1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗：常溫～200℃時2℃200～300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃，100℃～200℃時5.0℃200℃～300℃時7.0℃浙江高低溫快速試驗箱試驗箱有什么特點？合肥真萍科技告訴您。

無氧干燥箱應用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗。下面為大家簡單介紹一下無氧干燥箱。1.技術指標與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數(shù):2個,上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀；2.氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺）；

超高真空烘箱廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時間：①常壓時：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時：180min（常溫～+260℃）2.降溫時間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗箱承壓方式：采用內承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa試驗箱怎樣使用？合肥真萍告訴您。

下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設計。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內抽真空，被處理工件放置在爐膛內，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質量的目的。二、設計特點1.后門設計熱風電機2.降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的。試驗箱定制生產(chǎn)，價格從優(yōu)。小型試驗箱供應商家

合肥真萍科技告訴您試驗箱的外觀設計有哪些要求。南京生產(chǎn)試驗箱

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的整機尺寸、真空腔體尺寸。1.內膽尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架：2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍：溫度分辨率：0.1℃溫度波動度：0.5℃4.真空泵：油泵或無油真空泵。真空度：133pa，5.加熱方式：腔體下部及兩側加溫。加熱器為外置加熱板（防止一側加熱使的HMDS液進入箱體內不能完本轉成氣態(tài)）6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片；6寸晶圓片；8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間（正常工藝在50分鐘-120分鐘（按產(chǎn)品所需而定烘烤時間），為正常工作周期不含降溫時間（因降溫時間為常規(guī)降溫）。南京生產(chǎn)試驗箱