刻蝕也可以分成有圖形刻蝕和無(wú)圖形刻蝕。有圖形刻蝕采用掩蔽層（有圖形的光刻膠）來(lái)定義要刻蝕掉的表面材料區(qū)域，只有硅片上被選擇的這一部分在刻蝕過(guò)程中刻掉。有圖形刻蝕可用來(lái)在硅片上制作多種不同的特征圖形，包括柵、金屬互連線(xiàn)、通孔、接觸孔和溝槽。無(wú)圖形刻蝕、反刻或剝離是在整個(gè)硅片沒(méi)有掩模的情況下進(jìn)行的，這種刻蝕工藝用于剝離掩模層（如STI氮化硅剝離和用于制備晶體管注入側(cè)墻的硅化物工藝后鈦的剝離）。反刻是在想要把某一層膜的總的厚度減小時(shí)采用的（如當(dāng)平坦化硅片表面時(shí)需要減小形貌特征）。硅材料刻蝕廠商有圖形刻蝕可以用來(lái)在硅片上制作多種不同的特征圖形。納米刻蝕工藝

干刻蝕是一類(lèi)較新型，但迅速為半導(dǎo)體工業(yè)所采用的技術(shù)。其利用電漿(plasma)來(lái)進(jìn)行半導(dǎo)體薄膜材料的刻蝕加工。其中電漿必須在真空度約10至0.001Torr的環(huán)境下，才有可能被激發(fā)出來(lái)；而干刻蝕采用的氣體，或轟擊質(zhì)量頗巨，或化學(xué)活性極高，均能達(dá)成刻蝕的目的。干刻蝕基本上包括離子轟擊與化學(xué)反應(yīng)兩部份刻蝕機(jī)制。偏「離子轟擊」效應(yīng)者使用氬氣(argon)，加工出來(lái)之邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微。而偏化學(xué)反應(yīng)效應(yīng)者則采氟系或氯系氣體(如四氟化碳CF4)，經(jīng)激發(fā)出來(lái)的電漿，即帶有氟或氯之離子團(tuán)，可快速與芯片表面材質(zhì)反應(yīng)。刪轎厚干刻蝕法可直接利用光阻作刻蝕之阻絕遮幕，不必另行成長(zhǎng)阻絕遮幕之半導(dǎo)體材料。而其較重要的優(yōu)點(diǎn)，能兼顧邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微與高刻蝕率兩種優(yōu)點(diǎn)，換言之，本技術(shù)中所謂活性離子刻蝕已足敷頁(yè)堡局滲次微米線(xiàn)寬制程技術(shù)的要求，而正被大量使用。深圳龍崗半導(dǎo)體刻蝕刻蝕工藝：把未能被抗蝕劑掩蔽的薄膜層除去，從而在薄膜上得到與抗蝕劑膜上完全相同圖形的工藝。

早期的刻蝕技術(shù)為濕法刻蝕，是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液中進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。這個(gè)過(guò)程是純化學(xué)腐蝕的過(guò)程。濕法刻蝕具有良好的選擇性，例如實(shí)驗(yàn)室經(jīng)常采用磷酸來(lái)腐蝕鋁金屬化，而不會(huì)腐蝕金屬化層間的介質(zhì)層材料；半導(dǎo)體制造過(guò)程中用調(diào)配后的氫氟酸（加入NH4F緩沖液）來(lái)腐蝕二氧化硅，而不會(huì)對(duì)光刻膠造成過(guò)量的傷害。隨著半導(dǎo)體特征尺寸的不斷減小，濕法刻蝕逐漸被一些干法刻蝕所替代。其原因在于濕法刻蝕是各向同性的，橫向刻蝕的寬度接近于縱向刻蝕的深度，因此會(huì)產(chǎn)生鉆蝕的現(xiàn)象，因此在小尺寸的制程中，濕法刻蝕的精度控制非常困難，并且可重復(fù)性差。

干刻蝕是一類(lèi)較新型，但迅速為半導(dǎo)體工業(yè)所采用的技術(shù)。其利用電漿(plasma)來(lái)進(jìn)行半導(dǎo)體薄膜材料的刻蝕加工。其中電漿必須在真空度約10至0.001Torr的環(huán)境下，才有可能被激發(fā)出來(lái)；而干刻蝕采用的氣體，或轟擊質(zhì)量頗巨，或化學(xué)活性極高，均能達(dá)成刻蝕的目的。干刻蝕基本上包括離子轟擊與化學(xué)反應(yīng)兩部份刻蝕機(jī)制。偏「離子轟擊」效應(yīng)者使用氬氣，加工出來(lái)之邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微。而偏化學(xué)反應(yīng)效應(yīng)者則采氟系或氯系氣體(如四氟化碳CF4)，經(jīng)激發(fā)出來(lái)的電漿，即帶有氟或氯之離子團(tuán)，可快速與芯片表面材質(zhì)反應(yīng)。刪轎厚干刻蝕法可直接利用光阻作刻蝕之阻絕遮幕，不必另行成長(zhǎng)阻絕遮幕之半導(dǎo)體材料。而其較重要的優(yōu)點(diǎn)，能兼顧邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微與高刻蝕率兩種優(yōu)點(diǎn)，換言之，本技術(shù)中所謂活性離子刻蝕已足敷頁(yè)堡局滲次微米線(xiàn)寬制程技術(shù)的要求，而正被大量使用。光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。

在Si片上形成具有垂直側(cè)壁的高深寬比溝槽結(jié)構(gòu)是制備先進(jìn)MEMS器件的關(guān)鍵工藝，其各向異性刻蝕要求非常嚴(yán)格。高深寬比的干法刻蝕技術(shù)以其刻蝕速率快、各向異性較強(qiáng)、污染少等優(yōu)點(diǎn)脫穎而出，成為MEMS器件加工的關(guān)鍵技術(shù)之一。BOSCH工藝,又名TMDE(TimeMultiplexedDeepEtching)工藝，是一個(gè)刻蝕一鈍化一刻蝕的循環(huán)過(guò)程，以達(dá)到對(duì)硅材料進(jìn)行高深寬比、各向異性刻蝕的目的。BOSCH工藝的原理是在反應(yīng)腔室中輪流通入鈍化氣體C4F8與刻蝕氣體SF6與樣品進(jìn)行反應(yīng)，工藝的整個(gè)過(guò)程是淀積鈍化層步驟與刻蝕步驟的反復(fù)交替。其中保護(hù)氣體C4F8在高密度等離子體的作用下分解生成碳氟聚合物保護(hù)層，沉積在已經(jīng)做好圖形的樣品表面。干法刻蝕優(yōu)點(diǎn)是：無(wú)化學(xué)廢液。深圳南山干法刻蝕

理想情況下，晶圓所有點(diǎn)的刻蝕速率都一致。納米刻蝕工藝

公司從事微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)，本公司擁有專(zhuān)業(yè)的品質(zhì)管理人員。專(zhuān)業(yè)經(jīng)營(yíng)范圍涉及：面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性、開(kāi)放性、支撐性樞紐中心。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線(xiàn)和一條中試線(xiàn)，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專(zhuān)業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù)，面向國(guó)內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開(kāi)放共享，為技術(shù)咨詢(xún)、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持。等，為了加強(qiáng)自身競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，引進(jìn)了先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售及代理于一體，實(shí)行多元化的創(chuàng)新經(jīng)營(yíng)方式。在采購(gòu)微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)時(shí)，不但需要靈活的業(yè)務(wù)能力，也需要掌握電子元器件的分類(lèi)、型號(hào)識(shí)別、用途等專(zhuān)業(yè)基礎(chǔ)知識(shí)，才能為企業(yè)提供更專(zhuān)業(yè)的采購(gòu)建議。近年來(lái)，電子科技消費(fèi)級(jí)應(yīng)用領(lǐng)域的不斷發(fā)展以及世界范圍內(nèi)人口消費(fèi)水平不斷提高，消費(fèi)電子市場(chǎng)終端產(chǎn)品領(lǐng)域在市場(chǎng)容量和品類(lèi)廣度上不斷發(fā)展延伸。隨著居家辦公及網(wǎng)課時(shí)代的到來(lái)，電子產(chǎn)品需求加大，帶動(dòng)我國(guó)電子元器件的需求持續(xù)增加。據(jù)資料顯示，2020年，我國(guó)規(guī)模以上電子制造業(yè)主營(yíng)業(yè)收入達(dá)12.1萬(wàn)億元，同比增長(zhǎng)8.3%。在互聯(lián)網(wǎng)融合建設(shè)中，無(wú)論是網(wǎng)絡(luò)設(shè)備還是終端設(shè)備都離不開(kāi)各種元器件。網(wǎng)絡(luò)的改造升級(jí)、終端設(shè)備的多樣化設(shè)計(jì)都要依托關(guān)鍵元器件技術(shù)的革新。建設(shè)高速鐵路，需要現(xiàn)代化的路網(wǎng)指揮系統(tǒng)、現(xiàn)代化的高速機(jī)車(chē)，這些都和電子元器件尤其是大功率電力電子器件密不可分。隨著新能源的廣泛應(yīng)用，對(duì)環(huán)保節(jié)能型電子元器件產(chǎn)品的需求也將越來(lái)越大。這都為相關(guān)的元器件企業(yè)提供了巨大的市場(chǎng)機(jī)遇。但是，目前我國(guó)的電子元器件產(chǎn)品，無(wú)論技術(shù)還是規(guī)模都不足以支撐起這些新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。未來(lái)幾年我國(guó)面對(duì)下游旺盛的需求新型電子元器件行業(yè)應(yīng)提升技術(shù)水平擴(kuò)大產(chǎn)能應(yīng)對(duì)市場(chǎng)需求。納米刻蝕工藝

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是以微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售、服務(wù)為一體的面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域，致力于打造***的公益性、開(kāi)放性、支撐性樞紐中心。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備，建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線(xiàn)和一條中試線(xiàn)，加工尺寸覆蓋2-6英寸（部分8英寸），同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專(zhuān)業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù)，面向國(guó)內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開(kāi)放共享，為技術(shù)咨詢(xún)、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供支持。企業(yè)，公司成立于2016-04-07，地址在長(zhǎng)興路363號(hào)。至創(chuàng)始至今，公司已經(jīng)頗有規(guī)模。公司具有微納加工技術(shù)服務(wù)，真空鍍膜技術(shù)服務(wù)，紫外光刻技術(shù)服務(wù)，材料刻蝕技術(shù)服務(wù)等多種產(chǎn)品，根據(jù)客戶(hù)不同的需求，提供不同類(lèi)型的產(chǎn)品。公司擁有一批熱情敬業(yè)、經(jīng)驗(yàn)豐富的服務(wù)團(tuán)隊(duì)，為客戶(hù)提供服務(wù)。芯辰實(shí)驗(yàn)室,微納加工以符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品質(zhì)量為目標(biāo)，并始終如一地堅(jiān)守這一原則，正是這種高標(biāo)準(zhǔn)的自我要求，產(chǎn)品獲得市場(chǎng)及消費(fèi)者的高度認(rèn)可。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所通過(guò)多年的深耕細(xì)作，企業(yè)已通過(guò)電子元器件質(zhì)量體系認(rèn)證，確保公司各類(lèi)產(chǎn)品以高技術(shù)、高性能、高精密度服務(wù)于廣大客戶(hù)。歡迎各界朋友蒞臨參觀、 指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。