plasma等離子清洗機(jī)原理將產(chǎn)品放入反應(yīng)腔體內(nèi)部，啟動(dòng)設(shè)備，真空泵將開(kāi)始抽氣，腔體內(nèi)部氣壓下降，同時(shí)維持放應(yīng)真空度；啟動(dòng)等離子發(fā)生器，腔體內(nèi)部電極間生產(chǎn)高壓交變電場(chǎng)，工藝氣體放應(yīng)生成等離子體；等離子體與物體表面污染物碰撞、反應(yīng)，生產(chǎn)揮發(fā)性物質(zhì)，被真空泵抽走，從而達(dá)到清潔活化的目標(biāo)。plasma等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)：1、反應(yīng)過(guò)程無(wú)需水參與，避免濕法工藝處理后，需要干燥處理的麻煩；2、無(wú)需濕法工藝處理后，廢水、廢棄溶劑的處理，降低了成本；3、表面處理效果強(qiáng)，清洗的同時(shí)還能表面活化改性，提高粘合力；4、處理過(guò)程短，整個(gè)過(guò)程反應(yīng)高效快捷，解決表面處理難題；等離子表面處理技術(shù)可以保障處理面效果均勻，從而提高材料的表面質(zhì)量和一致性。貴州半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)廠家供應(yīng)
等離子體不僅能有效地處理高分子聚合物表面的有機(jī)物污垢，同時(shí)還可用于PCBA及PCB、陶瓷面板、玻璃面板，金屬面板等材質(zhì)表面有機(jī)物的精細(xì)化清潔，"它對(duì)于這些材料的表面污染物的去除、提高表面能、表面改性，從而改善后工序之鍵合或粘合工藝。下面，我們一起來(lái)認(rèn)識(shí)下等離子清洗機(jī)在PCB制作工藝中的相關(guān)應(yīng)用案例。等離子清洗機(jī)清潔在PCB制作工藝中，相比濕法清洗更顯優(yōu)勢(shì)。對(duì)于高密度多層板(HDI)微孔，多層FPC除膠渣、Rigid-FlexPC除膠渣、FR-4高厚徑(縱橫)比微孔除膠渣(Desmear)等，效果更明顯更徹底。等離子清洗機(jī)清潔相比化學(xué)藥水除膠渣更穩(wěn)定，更徹底，良率可提高20%以上。吉林國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)產(chǎn)品介紹等離子體處理可以解決TPE噴漆附著困難的問(wèn)題。
光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷，影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術(shù)不斷選代更新，越來(lái)越多IC制造商開(kāi)始采用干法式去膠，干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝，它不需要浸泡化學(xué)溶劑，也不用烘干，去膠過(guò)程更容易控制，避免過(guò)多算上基底，提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠，其原理同等離子清洗類似，主要通過(guò)氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過(guò)泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過(guò)程:主要是物理作用對(duì)清洗物件進(jìn)行轟擊達(dá)到去膠的目的，主要的氣體為氧氣、氬氣等，通過(guò)射頻產(chǎn)生氧離子，轟擊清洗物件，以獲得表面光滑的較大化，并且結(jié)果是親水性增大。
等離子體表面處理機(jī)也叫等離子清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、plasma清洗機(jī)；用戶對(duì)它的稱呼非常多，它實(shí)際功能在于對(duì)物體表面處理，清洗、改性、刻蝕等；解決用戶不同的表面處理需求。表面活化：設(shè)備生產(chǎn)的等離子體內(nèi)有大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，通過(guò)物理及化學(xué)反應(yīng)，將表面污染物、雜質(zhì)處理，達(dá)到表面清洗的作用；表面改性：等離子體與物體表面發(fā)生反應(yīng)，使得物體表面的化學(xué)鍵斷裂，等離子體中的自由基反應(yīng)生產(chǎn)新鍵，提高表面活性，有利于粘接、涂覆等工藝。表面刻蝕：通入腐蝕性氣體進(jìn)行等離子體反應(yīng)時(shí)，氣體與物體表面反應(yīng)生產(chǎn)揮發(fā)性物質(zhì)，通過(guò)真空泵抽離，在表面形成需要的圖案、形狀，完成刻蝕效果。真空等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)就是在設(shè)備中有進(jìn)行等離子處理的反應(yīng)腔。
等離子體技術(shù)的特點(diǎn)是不分材料的幾何形狀和類型，均可進(jìn)行PlaSMA等離子處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物、PET纖維、PDMS、PTFE、ITO/FTO導(dǎo)電玻璃、硅片和大多數(shù)高分子材料，如液晶高分子、聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、聚四氟乙烯和石墨烯粉末、金屬氧化物粉末、聚乙二醇粉末、碳黑粉末、碳納米管粉末、硼粉、鋁粉、熒光粉等都能很好地處理，可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗、活化、改性、蝕刻。選擇適合的等離子清洗機(jī)能保證材料表面不被損傷，也能提升材料物理和化學(xué)性能。在操作等離子體清洗機(jī)時(shí)，要注意安全，遵守操作規(guī)程，防止氣體泄漏和電擊等危險(xiǎn)。山西在線式等離子清洗機(jī)作用
射頻電源的頻率直接決定了電場(chǎng)變化的速率，進(jìn)而影響等離子體的生成和特性。貴州半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)廠家供應(yīng)
等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)是高科技的一款表面處理設(shè)備，通過(guò)等離子體來(lái)達(dá)到表面處理的作用；獲得清洗、活化、刻蝕、涂層等多方向的應(yīng)用，解決各種行業(yè)的表面處理難題。1、等離子清洗機(jī)原理密閉的反應(yīng)腔體（真空室、真空腔體）被真空泵不斷抽氣，從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下降到設(shè)定的壓力值并維持真空度；通入氬、氫、氮?dú)獾裙に嚉怏w，啟動(dòng)等離子發(fā)生器，讓反應(yīng)腔體內(nèi)電極之間產(chǎn)生高壓交變電場(chǎng)，使得自由電子能量加速，去激發(fā)工藝氣體分子形成等離子體，具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體，會(huì)與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)、碰撞形成各種揮發(fā)性物質(zhì)，這些揮發(fā)性物質(zhì)伴隨工藝氣流由真空泵抽取出去，從而達(dá)到被處理對(duì)象表面清潔、活化等目的。貴州半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī)廠家供應(yīng)
